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次世代の超精密ナノ計測を実現する光ナノグリッド基準の自律校正

光学纳米网格标准自主校准，实现下一代超精密纳米测量

基本信息

批准号：
16F16367
负责人：
清水裕樹
金额：
$ 1.41万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2016
资助国家：
日本
起止时间：
2016-11-07 至 2019-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16F16367/
关键词：
精密計測生産工学加工学

项目摘要

本研究では，次世代の超精密ナノ計測を実現する光ナノグリッド基準の自律校正の実現を目的とし，XYナノグリッド定在波を高安定ガラス基板レジスト層に露光して，サブマイクロメートルピッチ正弦波光ナノグリッド基準を製作する手法を検討する．レーザ波面を三つに分割して干渉させてXY ナノグリッド定在波を生成するための波面分割光学系に，XYビーム干渉による定在波の歪成分を解消するための偏光変調制御法を組み合わせて定在波を生成する．また，この生成定在波をガラス基板上に構成した薄膜レジスト層に露光してナノグリッドパターンを構成する．さらに，作成したナノグリッドについて，複数のグリッド回折光波面から校正基準を自律的に創製するという，自律校正の新原理によって，光ナノグリッド基準と評価用干渉形状測定機の誤差成分を分離して求める手法を検討する．2年目となる29年度は，当初の予定どおりに，前年度に試作した光干渉グリッド定在波転写システムの基礎特性に関する実験的検証を進めるとともに，複数のグリッド回折光波面から校正基準を自律的に創製する自律校正の新原理によって，光ナノグリッド基準と評価用干渉形状測定機の誤差成分を分離して求める手法を検討した．新原理に基づく光ナノグリッド基準の評価アルゴリズムを構築し，計算機シミュレーションによりその妥当性を評価するとともに，自律校正システムのプロトタイプを構築し，実験的にもその妥当性を評価した．複数の１次回折光波面を測定するために，研究室で所有の光学式干渉形状測定機をベースとして，光ナノグリッド基準を測定機の光軸に合わせて回転する機構を有する実験装置を構築し，前述の光干渉グリッド定在波転写システムで創成した光ナノグリッド基準を自律校正し，そのZ平面度とXYピッチ誤差及び干渉形状測定機の参照鏡誤差を分離して求められることを実験的に実証した．

In this study, the next generation of ultra-precision equipment is designed to show that the basic level of self-regulation is self-correction, and that of XY is determined by the high stability of the wave, the high stability of the substrate and the exposure of light. We don't know how to make a sinusoidal wave. I don't know what to do. I don't know. In the XY system, the components of the wave are distorted, the polarizer is used to make the system, and the generation is determined on the substrate of the wave to form a thin film, which is sensitive to exposure. In the complex system, the refraction wavefront correction standard is self-regulated, the self-regulatory correction is based on the new principle, and the optical wavefront correction is based on the dry shape of the machine. The differential components of the optical wave surface are separated from each other to calculate the accuracy of the instrument. 2 years, the year 29, the original plan was set. In the previous year, the optical system is set in the wave to write the basic characteristics of the wave, the complex number is used to refract the wavefront to correct the basic level of self-discipline. The optical system is used to determine the basic level of the machine. The differential components of the machine are separated from the machine to calculate the manipulation of the machine. The new principle is based on the standard of optical equipment. The computer is used to determine the accuracy of the computer, and the computer. The equipment of the instrument is suitable for use. The complex data is returned to the optical wavefront for the determination of the optical wavefront. All the optical dry shape measuring machines are used in the laboratory. The optical equipment is used to determine the basic level of the optical equipment. The equipment of the optical equipment is installed in the facility. The aforementioned optical system is determined on the basis of self-regulation correction, flatness, XY error and dry shape measurement machine.