Lasing of GeSn wires fabricated by local liquid phase crystallization
局部液相结晶制备 GeSn 线的激光发射
基本信息
- 批准号:22H01528
- 负责人:
- 金额:$ 11.15万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2022
- 资助国家:日本
- 起止时间:2022-04-01 至 2025-03-31
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
本研究課題は、シリコンプロセスと整合性の高いⅣ族材料でのレーザー光源の実証を目的とする。そのために局所液相成長法にレーザー溶融技術を導入し、引張歪みを有するSn添加Ge材料でのレーザーダイオードの試作と動作実証を行う。局所液相成長法はSiO2基板上に形成したアモルファスGeSn細線を局所的に溶融することで結晶成長を促し、単結晶GeSn細線を形成する手法である。本手法にレーザー溶融技術を導入することで制御性を高め、Ⅳ族GeSn材料でのレーザーダイオードを試作し、室温動作、低しきい値でのレーザー発振を目指す。これまでは赤外線ランプ加熱炉で単結晶Ge細線の局所液相成長を行ってきた。試料基板下部に部分的にカーボンサセプターを配置することにより試料基板に温度勾配を持たせGe細線を部分的に溶融している。しかし、この手法ではサセプターからの熱伝導を用いているため精密な温度制御が困難であった。そこで、2022年度ではレーザー光照射を用いたGeSn細線の部分溶融による局所液相成長の高度化を進めた。レーザー光を集光照射することでGe細線の溶融している部分を限定しつつ、照射光を細線に沿って走査し結晶成長を促す。本手法はマイクロメータスケールでのゾーンメルト法に相当する。ゾーンメルト法は成長条件を調整することにより、不純物濃度を制御することが可能であり、走査速度等の結晶成長条件とSn組成、歪み量、結晶性等の関係を取得した。本成長法の学問的理解を深めるとともに、デバイス実証に必要な基礎的知見の取得を行った。
该研究主题旨在使用与硅过程高度兼容的IV组材料来证明激光光源。为此,将激光熔化技术引入局部液相生长中,并对激光二极管进行了原型,并证明了用拉伸菌株的SN掺杂GE材料的运行。局部液相生长是一种通过在SIO2底物上形成的局部融化的无定形GESN细丝并形成单晶GESN细丝来促进晶体生长的技术。通过将激光熔化技术引入此方法,可控性增加,由IV组GESN材料制成的激光二极管是原型的,激光振荡针对室温运行和低阈值激光振荡。到目前为止,已经在红外灯加热炉中进行了单晶GE细线的局部液相生长。通过将碳移动器部分放置在样品底物的底部,在样品基板上提供温度梯度,并部分融化了GE薄导线。但是,该技术使用受感受器的热传导,因此很难进行精确的温度控制。因此,在2022财年,我们一直在努力通过使用激光光照射来部分熔化GESN细线来改善局部液相的生长。通过收集激光,GE薄导线的熔点部分受到限制,并沿薄导线扫描辐射光以促进晶体生长。该方法对应于微米尺度区域熔体方法。区域熔体方法允许通过调节生长条件以及晶体生长条件(例如扫描速度和SN组成,应变量,结晶度等)之间的关系来控制杂质浓度。我们加深了对这种增长方法的学术理解,并获得了设备演示所需的基本知识。
项目成果
期刊论文数量(6)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Controllability of luminescence wavelength from GeSn wires fabricated by laser-induced local liquid phase crystallization on quartz substrates
石英基底上激光诱导局部液相结晶制备 GeSn 线发光波长的可控性
- DOI:10.35848/1347-4065/acb9a2
- 发表时间:2023
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:T. Shimura;R. Yamaguchi;N. Tabuchi;M. Kondoh;M. Kuniyoshi;T. Hosoi;T. Kobayashi and H. Watanabe
- 通讯作者:T. Kobayashi and H. Watanabe
Controllability of Luminescence Wavelength from GeSn Wires Fabricated by Laser Zone Melting on Quartz Substrates
石英基底上激光区域熔化制造的 GeSn 线发光波长的可控性
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Shimura;R. Yamaguchi;N. Tabuchi;M. Kondo;M. Kuniyoshi;T. Hosoi;T. Kobayashi;H. Watanabe
- 通讯作者:H. Watanabe
スパッタ成膜法によるGe(100)基板上のGeSnエピタキシャル成長
溅射沉积法在Ge(100)衬底上外延生长GeSn
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:國吉 望月;安部 和弥;田中 信敬;星原 雅生,小林 拓真;志村 考功;渡部 平司
- 通讯作者:渡部 平司
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志村 考功其他文献
横方向液相エピタキシャル成長によって作製したGeワイヤのフォトルミネッセンス測定によるバンドギャップ変調評価
通过光致发光测量横向液相外延生长制备的 Ge 线来评估带隙调制
- DOI:
- 发表时间:
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- 影响因子:0
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- DOI:
- 发表时间:
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- 影响因子:0
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- 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
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渡部 平司
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- DOI:
- 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
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渡部 平司
同上書(執筆担当:「東アジアにおける中国人の移動」)
同上(作者:《东亚华人的迁徙》)
- DOI:
- 发表时间:
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- 影响因子:0
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局所液相成長によるGeSn細線の形成とレーザーダイオードの動作実証
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- 批准号:
23K22798 - 财政年份:2024
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$ 11.15万 - 项目类别:
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24K07586 - 财政年份:2024
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$ 11.15万 - 项目类别:
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$ 11.15万 - 项目类别:
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- 资助金额:
$ 11.15万 - 项目类别:
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$ 11.15万 - 项目类别:
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