Kontrollierte Selbstorganisation bei der niederenergetischen Ionenstrahlerosion von Silizium-Oberflächen durch Vorstrukturierung

我是中小型企业，也就是印刷企业、印刷企业和技术企业。这些企业的自有企业--Phänomeen zu verknüpfen，De be be der Ionenstrahlrate von Festkörperoberflächen auftreten，and Somit die spzifischen vorteile beder ansätze ANSätze viinen。这是一个很好的例子，因为它不会影响到我们的生活。我是Rahman der Bisher duchgeführten arbeiten konnte gezeigt gezeigt，dass dass dch die kombination der ion enstrahlinduzierten selbstOrganization MIT konvenonellen lio-graph ischen Verfahren völlig neuartigen Strukturen BZW.muster entsteen n en können，die auf Planaren OberfläChen night ht it realisierbar sind。他说：“这是一项非常重要的工作，因为它是一项重要的工作。”在这里，我们可以根据新的杂交种和纳米级的杂交种，在不同的领域进行研究。

Im Mittelpunkt des Projektes steht, den Prinzipien der kontrollierten Selbstorganisation folgend, konventionelle lithographische Strukturierungsmethoden mit Selbstorganisations-phänomenen zu verknüpfen, die bei der Ionenstrahlerosion von Festkörperoberflächen auftreten, und somit die spezifischen Vorteile beider Ansätze vereinen. Exemplarisch wird dabei die ionenstrahlinduzierte Musterbildung auf Silizium-Oberflächen untersucht. Im Rahmen der bisher durchgeführten Arbeiten konnte gezeigt werden, dass durch die Kombination der ionenstrahlinduzierten Selbstorganisation mit konventionellen litho-graphischen Verfahren völlig neuartigen Strukturen bzw. Muster entstehen können, die auf planaren Oberflächen nicht realisierbar sind. Als Hauptparameter, die diese Musterbildung beeinflussen, wurden der lokale Einfallswinkel der Ionen sowie die relative Orientierung zwischen dem jeweiligen Oberflächenelement und einfallenden Ionenstrahl identifiziert. In der hier beantragten Verlängerungsphase sollen die Untersuchungen zu den Grundlagen der ionenstrahlinduzierten Musterbildung auf vorstrukturierten Si-Oberflächen fortgesetzt werden und damit die Basis für ein neues hybrides Nanostrukturierungsverfahren geschaffen werden.