Kontrollierte Selbstorganisation bei der niederenergetischen Ionenstrahlerosion von Silizium-Oberflächen durch Vorstrukturierung

通过预结构化控制硅表面低能离子束腐蚀的自组织

• 批准号: 47816862
• 负责人: Dr. Bashkim Ziberi
• 金额: --
• 依托单位: Universiteti i Tetoves
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Units
• 财政年份: 2007
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2006-12-31 至 2010-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/47816862?language=en
• 关键词: Kontrollierte; Selbstorganisation; bei; der; niederenergetischen

Im Mittelpunkt des Projektes steht, den Prinzipien der kontrollierten Selbstorganisation folgend, konventionelle lithographische Strukturierungsmethoden mit Selbstorganisations-phänomenen zu verknüpfen, die bei der Ionenstrahlerosion von Festkörperoberflächen auftreten, und somit die spezifischen Vorteile beider Ansätze vereinen. Exemplarisch wird dabei die ionenstrahlinduzierte Musterbildung auf Silizium-Oberflächen untersucht. Im Rahmen der bisher durchgeführten Arbeiten konnte gezeigt werden, dass durch die Kombination der ionenstrahlinduzierten Selbstorganisation mit konventionellen litho-graphischen Verfahren völlig neuartigen Strukturen bzw. Muster entstehen können, die auf planaren Oberflächen nicht realisierbar sind. Als Hauptparameter, die diese Musterbildung beeinflussen, wurden der lokale Einfallswinkel der Ionen sowie die relative Orientierung zwischen dem jeweiligen Oberflächenelement und einfallenden Ionenstrahl identifiziert. In der hier beantragten Verlängerungsphase sollen die Untersuchungen zu den Grundlagen der ionenstrahlinduzierten Musterbildung auf vorstrukturierten Si-Oberflächen fortgesetzt werden und damit die Basis für ein neues hybrides Nanostrukturierungsverfahren geschaffen werden.

Im Mittelpunkt des Projektes steht，den Prinzipien der kontrollierten Selbstorganisation folgend，konventionelle lithographische Strukturierungsmethoden mit Selbstorganisations-phänomenen zu verknüpfen，die bei der Ionenstrahlerosion von Festkörperoberflächen auftreten，und somit die spezifischen Vorteile beider Ansätze vereinen.例如，我们可以在硅上表面上进行离子辐射培养。Im Rahmen der bisher durchgeführten Arbeiten konnte gezeigt韦尔登，dass durch die Combination der ionenstrahlinduzierten Selbstorganisation mit konventionellen litho-graphischen Verfahren völlig neuartigen Strukturen bzw.如果你想知道的话上面的平面并不真实。在主参数中，这种影响是由离子的局部吸收引起的，它可以使上表面元素的相对取向和离子辐射的识别变得更加清晰。In der dreambeantragten Verlängerungsisollen die Untersuchungen zu den Grundlagen der ionenstrahlinduzierten Musterbildung auf vorstrukturierten Si-Oberflächen fortgesetzt韦尔登und damit die Basis für ein neues hybrides Nanostrukturierungsverfahren geschaffen韦尔登.