课题基金 / 基金详情

プラズマ励起有機金属気相法による酸化物高温超伝導薄膜形成

プラズマ励起有機金属気相法による酸化物高温超伝導薄膜形成
等离子体增强有机金属气相法形成氧化物高温超导薄膜
批准号:
02226224
负责人:
蛯原 健治
金额:
$1.6万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1990
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1990 至 --

项目摘要

项目成果

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本研究においては酸化物超伝導薄膜を作製するための新しいプロセス装置を開発した。このプラズマ励起有機金属化学気相堆積法(PEーMOCVD法)は超伝導元素を含む有機金属錯体の蒸気をプラズマ分解し、基板上に均質な、大面積薄膜を高速に作製できる特徴を有する。本年度は高周波プラズマ励起法によるMOCVD装置の試作とYBaCuO薄膜の作製を行い以下の成果を得た。(1)平行電極間にAr/O_3プラズマを生成し、Y(DPM)_3,Ba(DPM)_2、Cu(DPM)_2の原料気体を分解し、基板上に薄膜を堆積するための装置を開発し、YBaCuO膜を析出するための条件を調べた。(2)析出されたasーgrown膜はアモルファス状であり、導伝導伝性を示すが、超伝導遷移は示さなかった。(3)880℃においてアニ-リングをした結果、超伝導特性を示した。4端子測定によると。Tc(onset)=90K、Tc(zero)=87Kであった。(4)X線回折法の結果、(OOL)面方位の結晶構造を有し、c軸配向していた。(5)膜厚は約5μmであり、堆積速度は約100nm/minであった。(6)プロセスプラズマを分光計測し、Y,Ba,Cu各元素の原子、イオンからのスペクトルおよび酸化物からのスペクトルを確認した。(7)再現性良く薄膜を堆積することを及びプロセスの操作性を向上することが次の課題である。
期刊论文(9)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
蛯原 健治 他: "パルスプラズマプロセスの特性とYBaCuO薄膜析出" 電気学会論文誌A.
Kenji Ebihara 等人:“脉冲等离子体工艺和 YBaCuO 薄膜沉积的特性”IEEJ Transactions A。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
K.Ebihara et al.: "Spedroscopic study of plasmaーenhanced organomelallic chemical vapor deposition for supercmducting thin film tormation" Journal of Applied physics. 68. 1151-1156 (1990)
K. Ebihara 等人:“超导薄膜形成的等离子体增强有机金属化学气相沉积的光谱研究”应用物理学杂志 68. 1151-1156 (1990)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
T.Nakamiya et al.: "Computer simuletion of pulsed laser ablation for YBaCuO supercmducting films" Proceedings of Laser ablation for Materials Synthesis (1990 Materials Research Sociely). 191. 109-114 (1990)
T.Nakamiya 等人:“YBaCuO 超导薄膜脉冲激光烧蚀的计算机模拟”材料合成激光烧蚀论文集(1990 年材料研究学会)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
K.Ebihara et al.: "Rf plasmaーenhanced metalarganic chemical vapor deposition for high temperature YBaCuO supercmducting films" 10th International Symposium on Plasma Chemistry.
K. Ebihara 等人:“用于高温 YBaCuO 超导薄膜的射频等离子体增强金属化学气相沉积”第十届国际等离子体化学研讨会。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
6
    パルス電磁誘導放電を利用した反応性プラズマプロセシングに関する研究
    • 批准号:
      63632522
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • 资助金额:
      $0.96万
    • 财政年份:
      1988
    • 负责人:
      蛯原 健治
    • 依托单位:
    ハイブリッド放電プラズマを利用した材料プロセシングの基礎研究
    • 批准号:
      61550215
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $0.77万
    • 财政年份:
      1986
    • 负责人:
      蛯原 健治
    • 依托单位:
    プラズマの高周波誘導加熱に関する研究
    • 批准号:
      X46210------5132
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • 资助金额:
      $0.12万
    • 财政年份:
      1971
    • 负责人:
      蛯原 健治
    • 依托单位:
    海外基金