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Si上のZrO_2膜へのasーgrown高温超伝導膜の形成と超伝導素子への応用

Si基ZrO_2薄膜高温超导薄膜的形成及其在超导器件中的应用

基本信息

批准号：
02226223
负责人：
大坂之雄
金额：
$ 1.73万
依托单位：
Hiroshima University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1990
资助国家：
日本
起止时间：
1990 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-02226223/
关键词：
酸化物高温条伝導体超伝導素子 asーgrown超伝導膜

项目摘要

先年度において、YSZ/Si上に良質のBa_2YCu_3Ox高温超伝導膜を形成し、またそれを用いたマイクロ・ブリッヂのジョセフソン効果を観測していた。本年度は、Si上のバッファ層の改質により、高品質のBa_2YCu_3Ox膜の形成を試みた。また,マイクロ・ブリッヂを作製し、その特性が、どの程度に、バルクの内入的超伝導状態を反映するかを検討した。得られた結果は,次の様にまとめられる。1.Y_2O_3/YSZ/Si型のバツファ-層を用いて.Ba_2YCu_3Ox超伝導体のバルクの臨界電流密度が77Kで約10^6A/cm^2に達した。この値は,現在、得られているMgO基板上の最も大きい値と同等である。この高品質のBa^2YCu_3Ox膜を用いて,マイクロ・ブリッヂ型のジョセフソン素子を作成した。このジョセフソン素子のジョセフソン臨界電流密度は,77Kで約10^6A/cm^2の大きい値となった。この素子の特性は,バルク超伝導体を基礎にしたアザマロフとテルキンの理論と非常に良い一致を示す。このことは,現在のマイクロ・ブリッヂは,通常の粒界接合型ブリッヂと異り,超伝導の内在的性質で定る均一な欠陥と無関係の接合が形成されていることを示す。2.SQUIDを、この方法で製作するためには,約200A^^°のBa_2YCu_3Ox膜の形成が必要となる。現在,50K位の臨界温度をもつ、このような膜の製作に成功し、SQUIDの試作を実行中である。

In the past years, Ba_2YCu_3Ox high temperature superconducting films have been formed on YSZ/Si substrates, and the results of these films have been tested. This year, we will try to improve the quality of Ba_2YCu_3Ox film on Si. The characteristics of the system are discussed in detail. The result is that the number of people who have died is higher than the number of people who have died. 1. The critical current density of Ba_2YCu_3Ox superconductors is about 10^6A/cm^2 at 77K. The value of the MgO substrate is equal to the value of the MgO substrate. This high-quality Ba2YCu3Ox film was prepared by using a mixture of different types of solution. The critical current density of this solution is about 10^6 A/cm^2 at 77K. The properties of these molecules are based on the theory that they are very consistent with each other. This is the first time that a person has ever been involved in a relationship with another person, and the first time that a person has ever been involved in a relationship with another person. 2. It is necessary to form Ba_2YCu_3Ox film at about 200A by SQUID method. Now, the critical temperature of 50K is below, the film is successfully fabricated, and the SQUID trial is in progress.