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X線結像光学系評価法

X射线成像光学系统评价方法

基本信息

批准号：
02233103
负责人：
佐藤繁
金额：
$ 19.84万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1990
资助国家：
日本
起止时间：
1990 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究は各種の現存する光学計測装置を改造整備して種々の光学素子の特性研究に対応すること(三谷,前沢,渡辺,小川原,加藤,宮原,太田),及び大曲率非球面鏡の三次元曲率測定法の開発研究(佐藤,東)の2つに大別される。前者のうち,軟X線光学素子性能評価装置(三谷)では検出器駆動系のモ-タ-,エンコンダ-を増強し信頼性と読取精度の向上をはかりグリスホッパ-分光器出射光の偏光度測定を行った。同装置用軟X線高純度単色計(前沢)では元年度製作済の単色計内部に納めるミラ-の詳細設計製作をし設置調整と単色計全体の組立て動作真空試験を実施した。プラズマ機器較正用ビ-ムライン(渡辺,桜井)では回析格子の交換,イオンチェンバ-の改良を行ない多層膜の反射率測定,各種検出器の絶対感度較正を行うことが出来,実用の域に達した。宇宙研平行X線源(小川原,紀伊)では平行X線を利用しキャンパス移転に備えて鏡の表面粗さ,面形状測定等性能評価の検討を行った。レ-ザ-プラズマX線源(加藤)では重いタ-ゲット物質から放出されるX線スペクトルの絶対強度測定及びデ-タベ-ス確立のための理論解析を行った。光電子放出による表面界面の評価(宮原)では購入した装置と既設光電子分光試料槽を組み合せ白金コ-トSiCミラ-の清浄及び劣化表面からの光電子収量の差が40%以上であることを見出だした。表面EXAFS,X線定在波法による表面界面の評価(太田)では高工研放射光施設二結晶分光器を用いてNi(100)面に塩素を付着させた表面の構造解析を行い,塩素付着によってNi表面第1層が外部に向けて0.2A^^°延びていることを見出だした。三次元曲面形状評価法(佐藤,東)では元年度に試作した2周波レ-ザ-を用いた光ヘテロダイン干渉計の検討と改良を行い曲率50mmの凹面鏡の測定を10nm以下の精度で測定できることを確めた。また大寸法ミラ-表面を小領域に分割して測定するための部分分割測定法のアルゴリズムを検討した。

In this study, all kinds of optical counter devices have been modified and equipped with various optical phonon characteristics of different kinds of optical elements. (Miyagi, Fukushima, Watanabe, Ogawa, Kato, Yoshihara, Ota). And the study of the three-dimensional curvature measurement method for aspheric surfaces with large curvature (Sato, Sato). The former is accurate, the X-ray optical element performance measurement device (Sangu), the exporter, the system, the accuracy, the accuracy, the polarizability of the spectrometer, the polarizability of the spectrometer. With the same device, the X-ray high-temperature color meter (previously) is used for the annual design of the equipment, the internal equipment, the vacuum equipment. The machine is using the cross-section of the machine to analyze the grid, and the reflectivity of the multi-layer is measured, the sensitivity of each device is measured, and the domain is used. Cosmic research parallel X source (Ogawa, Yoshikawa) parallel X source (Ogawa, Yoi) parallel X source (Ogawa, Yoshikawa) parallel X source (Ogawa, Yoshikawa). The measurement of the strength of the X source (Kato) and the determination of the strength of the X source (Kato) and the theoretical analysis. Photovoltaic emission surface interface (original) photovoltaic equipment is equipped with photovoltaic spectroscopic grooves to combine platinum and degraded surface photovoltaic devices. The difference between photovoltaic and degraded surface photovoltaics is more than 40%. The surface EXAFS,X is determined in the wave method and the surface interface (Ota). The radiation crystal splitter uses the Ni (100) surface to analyze the surface, and the first external surface of the Ni surface is used to extend the temperature to 0.2A °. The cubic surface shape measurement method (Sato, Sato) is used for the annual measurement of 2-cycle wave. The curvature of the 50mm is improved. The concave surface is measured. The accuracy below the 10nm is measured. "large inch method"-Surface "small area" division method "measurement"partial division method"