高温超伝導体ヘテロエピタキシの表面・界面評価と光電応用

高温超导异质外延及光电应用的表面/界面评估

基本信息

  • 批准号:
    03210107
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 8万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1991
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1991 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

酸化物高温超伝導体YBCO薄膜エピタキシの清浄表面をUHVアニ-ルにより得る方法を確立して,大気成分ガスの表面への影響を明らかにした。酸素,窒素,水素,一酸化炭素,水蒸気について調べた。いずれのガス成分も表面吸着があるが,酸素はUHV放置だけで離脱した。窒素だけは強劣な毒性を発揮して,YBCO清浄表面に一度吸着すると表面結晶性に強い劣化をおこした。10^<ー5>Torrの低圧でさえ強い劣化をおこした。ArFエキシマ・レ-ザ法により高誘電率SrTiO_3のエピタキシャル成長,SrTiO_3/YBCOヘテロエピタキシャル成長,CaTiO_3/SrTiO_3ヘテロエピタシャル成長をおこなった。結晶性を向上させることにより分極電子密度として6×10^<13>(電子/cm^2)を得ることができた。CaTiO_3のヘテロエピタキシは世界的にも初めてのことであり今後の誘電体人工設計研究の基礎ができた。上記のヘテロ構造ウェハをエキシマ・レ-ザ選択成長法により作製して超伝導体の電界効果実験をおこなった。MISFET素子構造において,ゲ-ト電圧の印加により表面超伝導層の電子状態を変調することに成功した。超伝導体の中に直流MIS電界が侵入することを初めて実証する多くのデ-タを得た。工学的には超伝導トランジスタが誕生したことで大変に意義深いものである。FETの動作は半導体バンドモデルにより矛盾なく説明できることが分かり,高温超伝導体の電子状態をバンドモデル記述できることを直接示すことができた。
The method of obtaining the surface of YBCO thin film with high temperature conductivity was established, and the influence of high temperature composition on the surface of YBCO thin film was clarified. Acid element, stifling element, water element, acidified carbon, water steaming qi. In the middle of the film, the composition of the film is adsorbed on the surface, and the acid is separated from the UHV. The surface of YBCO is strongly deteriorated due to its strong toxicity. The surface of YBCO is strongly deteriorated due to its adsorption. 10^<-5>Torr Low voltage ArF- Crystallization: 6×10^<13>(electron/cm^2) CaTiO_3 is the foundation of artificial design for the future. In this paper, the author introduces a new method for the development of electrical conductors. MISFET element structure, the voltage and the electronic state of the surface superconductivity layer are successfully adjusted. The DC MIS field in the conductor is intruded into the system. Engineering is a very important topic. FET operation is a description of the electronic state of a semiconductor, a description of the electronic state of a high-temperature semiconductor.

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Ken Sakuta;Takeshi Kobayashi: "Experimental and Analysis on High Electric Field Transport in Epitaxial YBCO Thin Films" Jpn.J.Appl.Phys.30. 3355-3363 (1991)
Ken Sakuta;Takeshi Kobayashi:“外延 YBCO 薄膜中高电场传输的实验和分析”Jpn.J.Appl.Phys.30。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Takeshi Kobayashi;Ken Sakuta: "Application of High Tc Superconductors to Electronic and Optical Devices" Int.Conf.on Solid St.Devices and Materials. 420-422 (1991)
Takeshi Kobayashi;Ken Sakuta:“高温超导体在电子和光学器件中的应用”固体器件和材料国际会议。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Ken-ichi Matsui;Takeshi Kobayashi: "Hot carrier effet on current transport in Epitaxial YBaCuO thin films" Appl.phys.Lett.60(2). 243-245 (1992)
Ken-ichi Matsui;Takeshi Kobayashi:“外延 YBaCuO 薄膜中电流传输的热载流子效应”Appl.phys.Lett.60(2)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Sho-ichi Hoshiguchi;Takeshi Kobayashi: "Selective Epitaxial Growth of YBaCuO Thin films and Its Applications to MOSFET Fabrication" IEEE Trans.on Magn.27. 1441-1444 (1991)
Sho-ichi Hoshiguchi;Takeshi Kobayashi:“YBaCuO 薄膜的选择性外延生长及其在 MOSFET 制造中的应用”IEEE Trans.on Magn.27。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Ken Sakuta;Takeshi Kobayashi: "Microscopic Observation of Interface Structure of YBaCuO/MgO/YBaCuO Double Heteroepitaxial Thin films by TEM" IEEE Trans.on Magn.27. 1361-1364 (1991)
Ken Sakuta;Takeshi Kobayashi:“通过 TEM 对 YBaCuO/MgO/YBaCuO 双异质外延薄膜的界面结构进行微观观察”IEEE Trans.on Magn.27。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

小林 猛其他文献

ペプチドチップを用いた新規接着ペプチドの開発とデザイン
利用肽芯片开发和设计新型粘合肽
  • DOI:
  • 发表时间:
    2005
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    加賀千晶;加藤竜司;大河内美奈;国松巳歳;小林 猛;本多裕之
  • 通讯作者:
    本多裕之
マグネタイト結合ナノホーン粒子の交流磁場照射下における発熱特性およびゲムシタビン徐放特性
交变磁场照射下磁铁矿键合纳米角颗粒的放热特性和吉西他滨持续释放特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    堤内 要;岡山真也;河合憲康;小林 猛;蘇 進豪;今栄東洋子
  • 通讯作者:
    今栄東洋子
射影適応共鳴理論とブースティングの組み合わせ手法PART-BFCSを用いたがん組織の発現解析
使用 PART-BFCS(投影自适应共振理论和 boosting 的组合方法)对癌组织进行表达分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    伊東真弓;亀田めぐみ;井村美香;鈴木伸和;椎木峰行;堤内要;小林猛;小林猛;小林猛;小林 猛;高田 実;斉藤昌樹;鈴木伸和;吉田章乃;小林 猛;小塩 高広;高橋広夫
  • 通讯作者:
    高橋広夫
院スト落書なるデザイン入門-マルチメディアにおける教育設計
学校策略设计简介 - 多媒体教育设计
  • DOI:
  • 发表时间:
    2003
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Tachibana;H.;Zhou Jin;M.Sato;小林 猛;清水康敬(監訳)
  • 通讯作者:
    清水康敬(監訳)
網羅的な遺伝子発現情報を用いた植物の形態制御関連遺伝子解析
利用综合基因表达信息进行与植物形态控制相关的基因分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    伊東真弓;亀田めぐみ;井村美香;鈴木伸和;椎木峰行;堤内要;小林猛;小林猛;小林猛;小林 猛;高田 実;斉藤昌樹;鈴木伸和;吉田章乃;小林 猛;小塩 高広;高橋広夫;中尾幸子
  • 通讯作者:
    中尾幸子

小林 猛的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('小林 猛', 18)}}的其他基金

正電荷リポソーム包埋型磁性ナノ粒子を用いる温熱療法と臨床研究を目指した基盤整備
使用带正电的脂质体嵌入磁性纳米颗粒开发热疗和临床研究基础设施
  • 批准号:
    20015044
  • 财政年份:
    2008
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
未来型生体・環境複合量子センシング技術創成の企画調査
未来生物/环境复合量子传感技术创建的规划和研究
  • 批准号:
    15636004
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
磁界印加オーロラPLDに於ける有機ターゲット粒子高度イオン化現象の機構解明
应用极光PLD磁场中有机目标颗粒高电离现象的机理
  • 批准号:
    15360011
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
ストレス誘導型遺伝子発現による新規癌ターゲット療法の開発
利用应激诱导基因表达开发新型癌症靶向疗法
  • 批准号:
    13555224
  • 财政年份:
    2001
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
植物細胞培養および再分化に適したバイオリアクターの開発
开发适合植物细胞培养和再生的生物反应器
  • 批准号:
    98F00097
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
ボルテックス・エレクトロニクス領域の創製
涡流电子领域的创建
  • 批准号:
    09895024
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
バイオターゲティングのための生体分子デザイン
生物靶向生物分子设计
  • 批准号:
    09895023
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
バイオテクノロジーによる有用物質生産の工学的基盤
通过生物技术生产有用物质的工程基础
  • 批准号:
    07355018
  • 财政年份:
    1995
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
工学的手法による癌ミサイル温熱療法システムの構築
利用工程方法构建癌症导弹热疗系统
  • 批准号:
    05152059
  • 财政年份:
    1993
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Cancer Research
極微小な機能性磁性粒子による新しいガン治療法の開発
使用超细功能磁性颗粒开发新的癌症治疗方法
  • 批准号:
    03152058
  • 财政年份:
    1991
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Cancer Research

相似海外基金

ワイドギャップシリコン新材料:シリコン同素体Si46はエピタキシャル成長するか?
新型宽禁带硅材料:硅同素异形体Si46可以外延生长吗?
  • 批准号:
    24K07584
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Si基板上GaAs系ナノワイヤの大容量分子線エピタキシャル成長と光電変換応用
Si衬底上大容量GaAs纳米线分子束外延生长及光电转换应用
  • 批准号:
    24KJ0323
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
リチウム金属の電気化学エピタキシャル成長
锂金属的电化学外延生长
  • 批准号:
    23K23451
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
六方晶および閃亜鉛鉱構造窒化ホウ素の高温気相エピタキシャル成長と導電性制御
六方和闪锌矿结构氮化硼的高温气相外延生长及电导率控制
  • 批准号:
    23K22786
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
有機単結晶表面を用いた有機ー有機エピタキシャル成長の初期過程解明と電子状態理解
阐明使用有机单晶表面的有机-有机外延生长的初始过程和电子态
  • 批准号:
    23K13807
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
六方晶および閃亜鉛鉱構造窒化ホウ素の高温気相エピタキシャル成長と導電性制御
六方和闪锌矿结构氮化硼的高温气相外延生长及电导率控制
  • 批准号:
    22H01516
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
エピタキシャル成長を利用した高活性光触媒・光電極材料の開発
利用外延生长开发高活性光催化剂和光电极材料
  • 批准号:
    15J11523
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
高スピン偏極強磁性窒化物のエピタキシャル成長とスピントロニクスデバイスの作製
高自旋极化铁磁氮化物的外延生长及自旋电子器件的制备
  • 批准号:
    12J02075
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
エピタキシャル成長した3層構造シアノ錯体の機能性発現
外延生长的三层氰基络合物的功能表达
  • 批准号:
    11J00249
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
高品質シリサイド半導体のエピタキシャル成長とバンドエンジニアリングの検証
高质量硅化物半导体的外延生长和能带工程验证
  • 批准号:
    10J00775
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了