紫外レーザー光による有機非線形材料表面への光導波路の形成

利用紫外激光在有机非线性材料表面形成光波导

• 批准号: 07246236
• 负责人: 村原 正隆
• 金额: $ 0.64万
• 依托单位: Tokai University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1995 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-07246236/
• 关键词: エキシマレーザー; エキシマランプ; 光化学的表面改質; 非線形材料の表面改質; 官能基置換; ホログラフィック・グレーティング; PMMA; ポリイミド

有機線形材料は、概して耐久性に乏しく、加工性が悪い。そこでこの材料の表面のみを選択的に改質すれば、材料内部の特性は保持したまま、表面だけに機能性を付与することができる。これら光化学的改質を、有機非線形材料に適用し、ホログラフィク露光法をに応用し、干渉によって強め合って部分のみで光分解を起こさせ、そこに所望の原子団を置換することによって、従来線刻によって構成されていた回折格子を、屈折率、吸収率あるいは反射率の異なる格子を構成させる事が出来る。これは導波路として用いれば、エバネセント波による波長変換SHGを作ることが可能である。そこで本年はエキシマレーザーやエキシマランプを用いて、光化学的にPMMAやポリイミドに官能基の微細パターンを置換させることに成功した。1.ArFエキシマレーザーを用いたPMMA表面へのNH2基の置換PMMAと合成石英ガラス窓の間には毛細管現象を利用してアンモニア水を密着させ、この石英ガラスから、エキシマレーザー光を入射する。またPMMA板と合成石英ガラス窓の間には約50μmのアンモニア水(濃度28%)の薄液層を形成させ、入射されるエキシマレーザー光でアンモニア水とPMMA表面を同時に光励起した。この光処理をKrFレーザーで行った場合はOHのみが置換され、ArFレーザーの場合はNH2とOHが置換される事が明らかに成った。一方アンモニア水はArFレーザー光ではNH3そよびH20の療法を光分解出来るが、KrFレーザー光ではNH3は分解できず、その結果としてArFレーザー照射のみNH2基が置換されるものと考える。2.Xe^★2エキシマランプを用いたポリイミド表面へのOH基の置換ポリイミドフィルム上にまたはメチルアルコールを滴下し、合成石英窓を被せ、試料と窓との間に毛細管現象により薄液層を形成する。この窓面にヘッドオン型エキシマランプを密着させ、172nmの真空紫外線光を照射すると、水を用いた場合12分の照射で、またメチルアルコールの場合は3分で、水との接触角が未処理の63°から20°に改質されることがわかる。またいずれの場合とも、処理面のATR-FTIR分光で3300cm-1にOHの吸収が確認されている。

There are machine-shaped materials, general durability, and machinability. The surface properties of the material are changed, the internal properties of the material are maintained, and the function of the surface is paid to the material. The modification of photochemistry, the use of organic non-shaped materials, the use of exposure method, the photolysis of the parts of the photochemical system, the photolysis of the desired atoms, the reduction of the desired atoms, the use of non-shaped materials, the use Absorption rate, reflectivity, grid, absorption rate, reflectivity, reflectivity, reflectivity, It is possible to use the SHG of the wave length and the wave length of the wave path to determine the frequency of the wave. This year, we are talking about the use of PMMA in photochemistry, the use of photochemistry, the use of functional microelements, the success of photochemistry, and the use of photochemistry. 1.ArF is used to synthesize quartz on the surface of PMMA, which is based on PMMA, to synthesize quartz, to synthesize quartz and to synthesize quartz. The PMMA board is used to synthesize quartz. The temperature is about 50 μ m. The temperature of the water is 28%. The thin liquid is formed, and the incident temperature is excited at the same time on the surface of the PMMA. You need to know that you are in line with the OH, ArF, NH2, OH, and so on. One side was exposed to ArF, NH3, H20, photolysis, KrF, NH3, NH3, and the results showed that the NH2 substrate was irradiated in the presence of NH2. 2. Xe^

项目成果

村原正隆: "Excimer laser-induced photochemical modification and adhesion improvement of a fluororesin surface" J. Adhesion Sci. Technal. 9(12). 1601-1609 (1995)

Masataka Murahara：“准分子激光诱导的光化学改性和氟树脂表面的粘合性改进”J. Adhesion Technal 9(12)。

村原正隆: "Photochemical surface modification of palypropylene for adhesion enfrancement by suing an excimer Laser" J. Adhesion Sci. Techonol. 9(12). 1593-1599 (1995)

Masataka Murahara：“通过使用准分子激光对聚丙烯进行光化学表面改性”J. Adhesion Techonol。 9(12)。

池田正幸: "レーザー工学" オーム社, 174 (1995)

池田雅之：《激光工程》Ohmsha，174 (1995)

権田俊一: "薄膜作製応用ハンドブック" エヌ・ティー・エス, 1187 (1995)

贡田俊一：《薄膜制造应用手册》NTS，1187 (1995)

村原正隆: "Excimer Laser Induced photochemical Defluorination and Substitution of Hydrophilic Functional Group on Teflonsrface." SPIE・BiOS '96 Techonical Abstract. 37 (1996)

Masataka Murahara：“准分子激光诱导光化学脱氟和 Teflonsrface 上亲水官能团的取代。”SPIE·BIOS 96 技术摘要（1996 年）。