担持複合金属触媒における高次構造の制御と機能の複合化

负载型复合金属催化剂高阶结构和功能组合的控制

基本信息

  • 批准号:
    08232214
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.54万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1996
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1996 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

CVDによる薄膜調製は重要技術である。従来のCVD法は、高温・高真空・光やプラズマなど高エネルギーを要するプロセスである。本研究では、基板の触媒作用を利用して金属錯体を接触分解することで、200℃以下の低温で金属薄膜を調製し、さらに担持パイメタリック触媒の調製に応用した。金属前駆体として銅ジビパロイルメタナト錯体を用い、水素気流中で種々の基板上に金属銅の薄膜を調製した。水素化触媒として活性の高いパラジウムやニッケル上では膜成長速度が高く、銅やコバルト上では遅かった。表面を硫黄化合物で被毒し、触媒活性をなくした場合は成長速度が遅かった。またアルミナ基板の一部をpd膜で被覆した場合、Pd部分に選択的に析出した。このような選択析出を、担持バイメタリック触媒の調製に応用した。アルミナ担持Pd触媒のPd粒子表面に選択的に銅を析出させアルミナ担持Pd-Cuバイメタリック触媒を調製した吸着COの赤外スペクトル測定より、Pd上にCuが析出したことを確認した。またブタジエンの水素化反応でも、銅の添加効果が確認された。
CVD thin film modulation is an important technology. The CVD method is characterized by high temperature, high vacuum and high temperature. In this study, the catalytic effect of the substrate was used to modulate the metal thin film at low temperature below 200℃. Metal precursors and copper films are deposited on substrates in aqueous solutions. The growth rate of the film is higher than that of the catalyst. The growth rate of sulfur compounds on the surface is very high when they are poisoned and activated. In the case where a Pd film is deposited on a part of the substrate, the Pd film is deposited on the selected part. This is the first time that a catalyst has been prepared. Copper was precipitated on the surface of Pd particles supporting the Pd catalyst by Almuna. This was confirmed by the infrared spectroscopy measurement of CO adsorption when the Pd-Cu VA-METARIKEK catalyst supported by Almuna was prepared. The results of hydration and copper addition were confirmed.

项目成果

期刊论文数量(6)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Hiroshi Miura: "Preparation of Supported Bimetallic Catalysts by Means of Selective Deposition using Mobile Compounds as Precursors" Catalysis Today. 28(2). 215-221 (1996)
Hiroshi Miura:“使用流动化合物作为前体通过选择性沉积制备负载型双金属催化剂”《今日催化》。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
三浦弘: "炭化水素の脱水素反応-触媒の構造と機能" 触媒. 38(7). 572-579 (1996)
Hiroshi Miura:“烃脱氢反应 - 催化剂的结构和功能”催化剂 572-579 (1996)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
三浦弘: "担持バイメタリック触媒の調製と選択反応" ペトロテック. 19(5). 24-28 (1996)
Hiroshi Miura:“负载型双金属催化剂的制备和选择性反应”Petrotech 19(5) (1996)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • 通讯作者:
    三浦 弘
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  • 通讯作者:
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知道了