金属窒化物系傾斜機能材料の作成と巨大磁化

金属氮化物基功能梯度材料的创建和巨磁化

基本信息

  • 批准号:
    09229236
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.15万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1997
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1997 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

これまでに高周波スパッタ法により30WでFe/AIN間で積層膜を作製し、積層界面付近においてα-Feよりも大きな内部磁場をもつ窒化鉄成分の生成する可能性を見い出している。本研究ではまず高周波スパッタ法において100Wにて成膜した。AIN多結晶の焼結基板上にFe膜を作製してX線回折をとると、α-Feの最強線である110回折線が30Wで多層膜を成膜した場合と同様に著しく広幅化した。しかし逆にFe箔上にAIN膜を作製した場合には、110回折線には異常は見られなかった。また100Wにて多層膜を作製すると、230emu/gにも及ぶ従来を凌ぐの巨大磁化が観測された。α-FeおよびAINともに結晶化しており、多層化に伴ってAIN中の窒素が欠損している様子も明らかになった。これらの事実から多層膜を作製する場合には、AIN層を成膜時に下地となるFe層がスパッタ雰囲気の窒素によって窒化されるのではなく、やはり従来から提案していたようにAIN層の上にFe層を成膜した時点においてAIN層から少量の窒素が固相拡散して供給され、窒化鉄が生成していると考えられた。次に高周波スパッタ法によりFeとAlを窒素ガス雰囲気中でコスパッタしたのちにアニールして、Fe-Al-N系に関して磁性微粒子を析出させた分散膜を作製し、その構造と磁性について調べた。いずれの膜もアズデポの状態では常磁性体であり、熱分解に伴ってα-Fe様の微粒子が析出したグラニュラー膜が300℃付近から次第に生成した。500℃でアニールしたグラニュラー膜では、α-Feの飽和磁化値よりも遥かに小さかった。アズデポ膜中をFeおよびAlが拡散してグラニュラーな状態になるために要した500℃というアニール温度は、α-Feの格子間位置に窒素を保持するには高温過ぎたと考えられた。
The high-cycle high-frequency method uses 30W Fe/AIN to fabricate the active film, and the interface is close to the internal magnetic field. The asphyxiation of the magnetic field results in the formation of the component. In this study, high-frequency high-frequency method was used to form a film. The Fe film on the AIN multi-crystal substrate is used as the X-ray back-folding device, and the α-Fe film is the strongest line. The 30W multi-film film is formed. On the reverse Fe foil, the AIN film is used to close the wire, and the folded line is closed. The 100W multi-layer film is used to make a large magnetization, such as high voltage, high temperature, high voltage, high voltage, high temperature, high voltage, high voltage The results of α-Fe AIN assay showed that asphyxiate was not found in AIN, and that asphyxiate was found in polyphenols. During the preparation of the film, the Fe membrane was prepared, and the AIN film was formed. During the formation of the film, the asphyxiant was activated. The asphyxiation was induced. The asphyxiation was induced. The proposal was introduced. The Fe was used to form the film, and a small amount of asphyxiant solid phase dispersion was supplied to the Fe at the same time. To suffocate the disease, to make a test of the disease. In the high frequency method, Fe, Al, asphyxiant, asphyxiant, magnetic particles, magnetic particles. The structure of the film is similar to that of the permanent magnetic body, the decomposition is accompanied by the precipitation of α-Fe particles, the temperature of the film is close to 300 ℃, and the first step is to form the film. At 500 ℃, the film, α-Fe and magnetization were measured at 500 ℃. The temperature of Fe in the film, the temperature of Al, the temperature of temperature, the position of asphyxiant in the lattice of α-Fe, the temperature of temperature, the temperature of temperature, the temperature of the temperature, the temperature and the temperature.

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
S.Kikkawa: "Magnetic and interface Characterization of rf-sputter deposited multilayered and granular Fe/AlN films" Ceramic Microstructure'96. (印刷中). (1998)
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  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
吉川 信一: "ナノ・メゾ複合化による機能性金属窒化物の新展開" 人工粘土. 35. 2-14 (1997)
Shinichi Yoshikawa:“纳米介观复合功能性金属氮化物的新发展”Artificial Clay,35. 2-14 (1997)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
藤木 充司: "反応性同時スパッタ法によるFe-Al-N系薄膜の作製とアニール効果" 粉体および粉末冶金. 44. 674-677 (1997)
Mitsushi Fujiki:“反应共溅射法和退火效应制备Fe-Al-N薄膜”粉末与粉末冶金学44。674-677(1997)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
吉川 信一: "高周波スパッタ法によるFe/AlN多層膜の成膜条件と物性" 粉体および粉末冶金. 45(印刷中). (1998)
Shinichi Yoshikawa:“高频溅射的 Fe/AlN 多层膜的沉积条件和物理性能”粉末和粉末冶金 45(出版中)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
杉山 秀幸: "高周波スパッタ法によるSi-Fe-N系薄膜の作製および熱分解反応による磁性微粒子の析出" 粉体および粉末冶金. 45. 63-67 (1998)
Hideyuki Sugiyama:“通过高频溅射和热分解反应沉淀磁性细颗粒来制备 Si-Fe-N 薄膜”《粉末与粉末冶金》45. 63-67 (1998)。
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  • 发表时间:
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    0
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知道了