课题基金 / 基金详情

テラヘルツ帯の増幅・発振デバイス

テラヘルツ帯の増幅・発振デバイス
太赫兹波段放大/振荡装置
批准号:
13026207
负责人:
浅田 雅洋
金额:
$29.31万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
2001
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2001 至 2003

项目摘要

项目成果

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本研究は、満足な固体の増幅・発振素子が存在せず、未開拓の領域となっているテラヘルツ(THz)帯に対して、超格子サブバンド間誘導放出素子および新たに提案したフォトンアシストトンネルと電子波のビートを利用した三端子素子の実現を目指し、本年度は以下の成果を得た。THzデバイス形成に向けて、ポテンシャル障壁が高く、量子準位が尖鋭になることが期待される金属/絶縁体/半導体ヘテロ接合材料系に対して、昨年度までに成功している絶縁体/半導体(CaF_2/CdF_2/Si)ヘテロ接合に金属(CoSi2)を加え、結晶成長領域を100nm程度の微細な領域に限定したナノ領域エピタキシーを用いて共鳴トンネル構造を形成し、非常に均一性のよい室温微分負性抵抗特性を得ることに成功した。並行して、デバイスに一体集積するためのTHz帯平面微細アンテナと基本的なデバイス構造を提案し、金属/絶縁体/半導体ヘテロ接合への応用に先んじて、半導体ヘテロ構造を用いて形成し特性を把握した。微細アンテナに関しては集積スロットアンテナと半導体共鳴トンネルダイオードを集積した発振デバイスにより、サブTHz(250GHz)の発振が得られるとともに、理論解析によりサイズ縮小によりTHz帯も発振可能であることを明らかにした。基本となるデバイス構造の考案と作製に関しては、二次元電子ガスを用いたデバイスを考案し、作製プロセスを確立して素子中心部を形成することにより、直流特性から、電流量などTHz増幅に十分な特性を有することを明らかにした。これらのデバイスは、それ自体がサブTHz〜THz帯のデバイスとして有用な構造および特性を持つことが示されるとともに、金属/絶縁体/半導体THzデバイスの最適な構造に対する指針となった。
期刊论文(28)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
M.Tsutsui, T.Nagai, M.Asada: "Analysis and Fabrication of p-type Vertical PtSi Schottky Source/Drain MOSFET"Trans. Electron. IEICE of Japan. E85-C(掲載予定). (2002)
M.Tsutsui、T.Nagai、M.Asada:“p 型垂直 PtSi 肖特基源极/漏极 MOSFET 的分析和制造”,Trans. E85-C(即将出版)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
M.Watanabe, T.Ishikawa, M.Matsuda, T.Kanazawa, M.Asada: "Room temperature negative differential resistance of CdF_2/CaF_2 resonant tunneling diode grown on Si using nanoarea local epitaxy"Abstract of International Conference on Physics of Semiconductors (
M.Watanabe、T.Ishikawa、M.Matsuda、T.Kanazawa、M.Asada:“使用纳米区域局部外延在 Si 上生长的 CdF_2/CaF_2 谐振隧道二极管的室温负微分电阻”国际半导体物理会议摘要(
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
M.Asada, M.Yamada: "Theoretical analysis of interaction between electron beam and electromagnetic wave for unidirectional optical amplifier"Journal of Applied Physics. 95(掲載予定). (2004)
M.Asada、M.Yamada:“单向光放大器电子束与电磁波相互作用的理论分析”应用物理学杂志 95(待出版)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
M.Tsutsui, M.Asada: "Dependence of Drain Current on Gate Oxide Thickness of p-type Vertical PtSi Schottky Source/Drain MOSFETs"Japan. J. Applied Physics. 41・1. 54-58 (2002)
M.Ttsutsui、M.Asada:“p 型垂直 PtSi 肖特基源极/漏极 MOSFET 的漏极电流对栅极氧化层厚度的依赖性”,日本应用物理杂志 41・1。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
13
    周波数可変機能を持つ半導体室温テラヘルツ発振素子の研究
    • 批准号:
      26249045
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额:
      $26.12万
    • 财政年份:
      2014
    • 负责人:
      浅田 雅洋
    • 依托单位:
    超高速テラヘルツ通信のためのダイナミック漏れ波アンテナの研究
    • 批准号:
      14F04722
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $0.96万
    • 财政年份:
      2014
    • 负责人:
      浅田 雅洋
    • 依托单位:
    半導体共鳴トンネル構造によるコヒーレントテラヘルツデバイスの研究
    • 批准号:
      21246055
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额:
      $8.9万
    • 财政年份:
      2009
    • 负责人:
      浅田 雅洋
    • 依托单位:
    絶縁体/半導体異種材料単結晶超格子を用いたサブバンド間遷移レーザの研究
    • 批准号:
      13875068
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Exploratory Research
    • 资助金额:
      $1.41万
    • 财政年份:
      2001
    • 负责人:
      浅田 雅洋
    • 依托单位:
    海外基金