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絶縁体/半導体ヘテロ超格子を用いたサブバンド間遷移レーザの研究

绝缘体/半导体异质超晶格子带间跃迁激光器研究

基本信息

批准号：
11875079
负责人：
浅田雅洋
金额：
$ 1.41万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份：
1999
资助国家：
日本
起止时间：
1999 至 2000
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究は、次世代の光-電子融合集積回路を実現するための基本素子として、シリコン基板上にエピタキシャル結晶形成可能な絶縁体と半導体の積層超格子を用いた量子井戸サブバンド間遷移レーザを理論的に提案し、その実現のための基礎研究として、シリコン/弗化カルシウム(CaF_2:絶縁体)および弗化カルシウム(CdF_2)/弗化カドミウム(CaF_2)ヘテロ超格子の結晶成長技術の確立、及びレーザ素子実現への基礎となる実験的・理論的研究を目的とする。この目的を達成するため、本年度は以下の成果を得た。本年度は、超格子形成に用いる材料として、弗化カルシウム(CaF_2)および弗化カドミウム(CdF_2)を用い、この材料系を用いた超格子結晶成長と、2重障壁共鳴トンネルダイオード構造を用いた超格子サブバンドの形成確認、およびその精密制御に関する研究を行った。基板としてシリコン(111)を用い、熱酸化によって形成した15nm厚の酸化膜に、電子ビーム露光法により100nm〜400nmのサブミクロンの微小孔を形成した。この微細孔中へ数原子層オーダーの膜厚を有する弗化カルシウム、弗化カドミウム二重障壁共鳴トンネルダイオードを形成する。微細孔への成長により、弗化カルシウムの成長初期過程におけるピンホール欠陥を抑制し、素子特性の安定性・特性の均一性向上を目指した。その結果、微細孔サイズが400nmでは、ほとんどパターニングの効果は見られなかったが,微細孔サイズを200nm以下では、共鳴トンネルダイオードの室温微分負性抵抗特性の均一性/安定性に顕著な改善が見られるとともに、微分負性抵抗のピーク電流を与える電電圧値の均一性が著しく向上し,膜厚の制御精度が一原子層以下の正確さを有することが実験的に確認された。この成果により,本研究で提案する弗化物系ヘテロ構造を量子効果デバイスへ応用する足がかりが得られた。

In this study, the optical and electronic fusion loops of the next generation have demonstrated the formation of the crystal of the basic element and the substrate of the optical and electronic devices, which may lead to the formation of the semimetallic body and the active superlattic. it is possible to use the proposal of the theory of transfer theory of optical and electronic devices in quantum wells, and to realize the basic theory of transfer theory. The technology of crystal growth and the study of the theory of crystal growth in the crystal growth technology of CaF_2 (CaF_2) are very important in the study of the theory of crystal growth in the superlattice of crystal growth (CaF_2). The following achievements have been achieved this year. This year, the superlattice is formed by using the superlattice (CaF_2), the superlattice (CaF_2), the superlattice (CdF_2), the material system, the superlattice, the double barrier, the superlattice, and the precision control system. The substrate was used to form a thick acidified 15nm film, and the electron beam exposure method was used to determine the size of the micro-hole. In the micro-hole, the number of atoms, the thickness of the film, the double barrier, the thickness of the film, the formation of the double barrier. In the early stages of the growth of microholes, the initial growth of microholes, the inhibition of the stability and uniformity of characteristics. The results of the experiment, the results of the micro-hole, the 400nm, the micro-hole, the micro-hole, the micro- The accuracy of the film thickness is below one atom. There is a correct confirmation of the film thickness. The results show that in this study, we propose that the system of chemical compounds should be used to create quantum chemistry.

项目成果

期刊论文数量（6）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

渡辺正裕、筒井将史、浅田雅洋: "Si-CaF_2 及び CdF_2-CaF_2ヘテロ接合を用いたシリコン基板上共鳴トンネルダイオード"電子情報通信学会(電子デバイス研究会),ED99-316,. 99巻616号(講演番号11). 73-77 (2000)

Masahiro Watanabe、Masashi Tsutsui、Masahiro Asada：“使用 Si-CaF_2 和 CdF_2-CaF_2 异质结的硅衬底上的谐振隧道二极管” IEICE（电子器件研究组），ED99-316，第 99 卷，第 616 期。（讲座编号 11） 73-77（2000）。