オンチップ・ナノ・エレクトロポレーションによる細胞応答計測と機能制御
オンチップ・ナノ・エレクトロポレーションによる細胞応答計測と機能制御
批准号:
18048008
负责人:
鷲津 正夫
金额:
$7.81万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2007
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本課題の研究対象である電界集中を用いたエレクトロポレーションとは,細胞径の数分の1程度の大きさの微細オリフィスを持つ絶縁性薄膜の作る電界集中を用い,オリフィス上に吸引固定された細胞にパルス電界を加えることによりオリフィスに接した細胞膜のみに可逆的膜破壊を起こし,細胞内に物質導入を行う手段のことである。本年度の研究においては,波高値1-2V程度の高周波変調パルスを用い,主に哺乳類細胞を対象として実験を行い,次の結果を得た。1.パルス印加後の細胞の経時観察を数日間にわたって行い,本法によるエレクトロポレーションが生存性・活性に影響を与えず,エレクトロポレーションを行った細胞は通常の細胞同様に増殖することを示した。2.低分子量物質導入は印加電圧の極性によらないが,プラスミドの導入においては,電気泳動の効果があらわれ,適切な極性を選択すると,チップ上に固定された細胞の20%程度に遺伝子を発現させることができることを示した。3.オリフィスおよび微小流体回路を一括で作製するための,斜め露光という新手法を開発し,1細胞レベルで細胞の特定位置から物質導入を行う手法を開発した。また,本研究を通じて開発した電圧印加時の膜電位の数値解析法を用い,2つ以上の細胞がある場合の膜電位分布を解析したところ,従来の細胞懸濁液に単に一様電界を印加する電気細胞融合では本質的に高い収率になり得ないこと,および上記エレクトロポレーション同様に微細オリフィスの作る電界集中を用いれば,高収率で必ず1:1の融合が行えることを理論的に示した。
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DOI:
10.1088/0022-3727/40/6/036
发表时间:
2007-03-21
期刊:
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
影响因子:
3.4
作者:
[Techaumnat, Boonchai, Washizu, Masao]
通讯作者:
Washizu, Masao
High-yield electroporation using RF modulated field constriction
使用射频调制场收缩进行高产电穿孔
DOI:
--
发表时间:
2006
期刊:
Proc. μ-TAS 2006
影响因子:
--
作者:
[Osamu Kurosawa, Hidehiro Oana, Hidetoshi Kotera, Masao Washizu]
通讯作者:
Masao Washizu
Electroporation throught a micro-fabricated orifice and its application to the measurement of cell response to external stimuli
通过微加工孔的电穿孔及其在测量细胞对外部刺激的反应中的应用
DOI:
--
发表时间:
2006
期刊:
Meas. Sci. Technol 17
影响因子:
--
作者:
[Osamu Kurosawa, Hidehiro Oana, Satoshi Matsuoka, Akinori Noma, Hidetoshi Kotera, Masao Washizu]
通讯作者:
Masao Washizu
Extending chromosomal DNA in microstructures using electroosmotic flow
利用电渗流在微结构中延伸染色体 DNA
DOI:
--
发表时间:
2006
期刊:
J. Phys. C : Condens. Matter 18
影响因子:
--
作者:
[Kyohei Terao, Hiroyuki Kabata, Masao Washizu]
通讯作者:
Masao Washizu
Fabrication and operation of a micro orifice array chip with high electroporation efficiency
高电穿孔效率微孔阵列芯片的制作与运行
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Murat Gel, Osamu Kurosawa, Hidehiro Oana and Masao Washizu]
通讯作者:
Hidehiro Oana and Masao Washizu
共 10 条
マイクロオリフィスを用いた超高収率細胞融合とその細胞計測・細胞機能制御への応用
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批准号:20034010
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$4.54万
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财政年份:2008
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
細胞の電気力学的操作とそのチップテクノロジーへの応用
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批准号:06F06108
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.54万
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财政年份:2006
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
転写モーターの1分子可視化実時間計測法による解明
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批准号:12030216
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2000
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
転写モーターの1分子可視化実時間計測法による解明
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批准号:11156217
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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资助金额:$1.79万
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财政年份:1999
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
転写モーターの1分子可視化実時間計測法による解明
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批准号:10175216
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1998
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
静電気力学的効果を用いたDNAの遺伝情報の読み出し
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批准号:06805028
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1994
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
静電気力学的効果による生体高分子の超マイクロマニピュレーション
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批准号:05805028
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.9万
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财政年份:1993
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
静電力を用いたバイオマテリアルのマイクロマニピュレーション
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批准号:04805027
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1992
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
微細加工技術の応用による生体高分子の電気力学的マイクロマニピュレーション
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批准号:02855059
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1990
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
流体集積回路による細胞および生体高分子の電気力学的超マイクロマニュピレーション
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批准号:01750248
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1989
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负责人:鷲津 正夫
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依托单位:
海外基金