Sputtering deposition using powder as a target and elucidation of its process plasma reaction mechanism
Sputtering deposition using powder as a target and elucidation of its process plasma reaction mechanism
以粉末为靶材的溅射沉积及其过程等离子体反应机理的阐明
批准号：
15K21595
负责人：
OHSHIMA Tamiko
金额：
$2.58万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2017-03-31
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DOI：
10.7567/jjap.55.01aa08
发表时间：
2015
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
[T. Ohshima;T. Maeda;Y. Tanaka;Hiroharu Kawasaki;Y. Yagyu;T. Ihara;Y. Suda]
通讯作者：
T. Ohshima;T. Maeda;Y. Tanaka;Hiroharu Kawasaki;Y. Yagyu;T. Ihara;Y. Suda
Titanium Oxide Thin Film Preparation by Pulsed Laser Deposition Method Using Ti and TiO<sub>2</sub> Powder Target
Ti和TiO<sub>2</sub>粉末靶材脉冲激光沉积法制备氧化钛薄膜
Ti和TiO<sub>2</sub>粉末靶材脉冲激光沉积法制备氧化钛薄膜
DOI：
10.14723/tmrsj.40.21
发表时间：
2015
期刊：
Transactions of the Materials Research Society of Japan
影响因子：
--
作者：
[H. Kawasaki, T. Ohshima,Y. Yagyu, T. Ihara, Y. Tanaka, Y. Suda]
通讯作者：
Y. Suda
The Single chamber solid oxide fuel cell prepared using plasma deposition process
采用等离子体沉积工艺制备的单室固体氧化物燃料电池
采用等离子体沉积工艺制备的单室固体氧化物燃料电池
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Tamiko Ohshima, Yoshihiro Nojiri, Kakeru Kawashita, Masaki Iwaya, Hiroharu Kawasaki, Yoshihito Yagyu, Takeshi Ihara and Yoshiaki Suda]
通讯作者：
Takeshi Ihara and Yoshiaki Suda
混合粉体ターゲットを用いたAZOのスパッタリング成膜
使用混合粉末靶材溅射沉积 AZO
使用混合粉末靶材溅射沉积 AZO
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[大島多美子, 川崎仁晴, 柳生義人, 猪原武士, 須田義昭]
通讯作者：
須田義昭
Deposition of Al-doped zinc oxide thin films using various mixed powder targets by sputtering method
不同混合粉末靶材溅射法沉积Al掺杂氧化锌薄膜
不同混合粉末靶材溅射法沉积Al掺杂氧化锌薄膜
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Tamiko Ohshima, Hiroharu Kawasaki, Yoshihito Yagyu, Takeshi Ihara, Yoshiaki Suda]
通讯作者：
Yoshiaki Suda
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