Sputtering deposition using powder as a target and elucidation of its process plasma reaction mechanism

以粉末为靶材的溅射沉积及其过程等离子体反应机理的阐明

• 批准号: 15K21595
• 负责人: OHSHIMA Tamiko
• 金额: $ 2.58万
• 依托单位: Sasebo National College of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2015
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2015-04-01 至 2017-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-15K21595/
• 关键词: スパッタリング; 粉体ターゲット; 低融点有機材料; 多元素複合材料; プラズマプロセス; アルミニウムドープ酸化亜鉛; 透明導電膜

项目成果

Sputtering deposition of Al-doped zinc oxide thin films using mixed powder targets

• DOI: 10.7567/jjap.55.01aa08
• 发表时间: 2015
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: T. Ohshima;T. Maeda;Y. Tanaka;Hiroharu Kawasaki;Y. Yagyu;T. Ihara;Y. Suda

Titanium Oxide Thin Film Preparation by Pulsed Laser Deposition Method Using Ti and TiO₂ Powder Target

Ti和TiO₂粉末靶材脉冲激光沉积法制备氧化钛薄膜

• DOI: 10.14723/tmrsj.40.21
• 发表时间: 2015
• 期刊: Transactions of the Materials Research Society of Japan
• 作者: H. Kawasaki;T. Ohshima,Y. Yagyu;T. Ihara;Y. Tanaka;Y. Suda
• 通讯作者: Y. Suda

The Single chamber solid oxide fuel cell prepared using plasma deposition process

采用等离子体沉积工艺制备的单室固体氧化物燃料电池

• 发表时间: 2016
• 作者: Tamiko Ohshima;Yoshihiro Nojiri;Kakeru Kawashita;Masaki Iwaya;Hiroharu Kawasaki;Yoshihito Yagyu;Takeshi Ihara and Yoshiaki Suda
• 通讯作者: Takeshi Ihara and Yoshiaki Suda

混合粉体ターゲットを用いたAZOのスパッタリング成膜

使用混合粉末靶材溅射沉积 AZO

• 发表时间: 2016
• 作者: 大島多美子;川崎仁晴;柳生義人;猪原武士;須田義昭
• 通讯作者: 須田義昭

Deposition of Al-doped zinc oxide thin films using various mixed powder targets by sputtering method

不同混合粉末靶材溅射法沉积Al掺杂氧化锌薄膜

• 发表时间: 2016
• 作者: Tamiko Ohshima;Hiroharu Kawasaki;Yoshihito Yagyu;Takeshi Ihara;Yoshiaki Suda
• 通讯作者: Yoshiaki Suda