Development of dislocation propagation tracking method in nitride semiconductors by synchrotron micro-beam X-rays
Development of dislocation propagation tracking method in nitride semiconductors by synchrotron micro-beam X-rays
批准号:
16K17522
负责人:
Sasaki Takuo
金额:
$2.75万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31
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その場X線回折による窒化物半導体薄膜の結晶成長観察
使用原位 X 射线衍射观察氮化物半导体薄膜中的晶体生长
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
SPring-8/SACLA利用者情報
影响因子:
--
作者:
[佐々木 拓生, 高橋 正光]
通讯作者:
高橋 正光
GaN上およびInN上GaInN成長における成長初期過程の観察
观察 GaN 和 InN 上 GaInN 生长的初始生长过程
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[上田 悠貴, 山田 純平, 藤原 亨介, 山本 大地, 丸山 隆浩, 成塚 重弥, 山口智広,佐々木拓生,高橋正光,尾沼猛儀,本田徹,荒木努,名西やす之]
通讯作者:
山口智広,佐々木拓生,高橋正光,尾沼猛儀,本田徹,荒木努,名西やす之
Nitride-MBE system for in situ synchrotron X-ray measurements
用于原位同步加速器 X 射线测量的氮化物 MBE 系统
DOI:
10.7567/jjap.55.05fb05
发表时间:
2016
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[Takuo Sasaki, Fumitaro Ishikawa, Tomohiro Yamaguchi, and Masamitu Takahasi]
通讯作者:
and Masamitu Takahasi
窒化ガリウム結晶成長表面のCTR散乱測定
氮化镓晶体生长表面的CTR散射测量
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[佐々木 拓生, 高橋 正光]
通讯作者:
高橋 正光
MBE成長GaNナノワイヤにおけるイエロールミネッセンスの抑制
MBE 生长的 GaN 纳米线中黄色发光的抑制
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[上杉 智洋, 佐々木 拓生, 高橋 正光]
通讯作者:
高橋 正光
共 14 条
Analysis of lattice strain and controlling of interfacial characteristics in heterostructured-nanowires by synchrotron X-rays
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批准号:26790020
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.5万
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财政年份:2014
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负责人:Sasaki Takuo
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依托单位:
海外基金