Bio-sensor by a sputtering method for new implant development
Bio-sensor by a sputtering method for new implant development
用于新型植入物开发的溅射法生物传感器
批准号：
26861665
负责人：
ARAI Korenori
金额：
$2.33万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2016-03-31
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マグネトロンスパッタ法を用いた結晶化アパタイト薄膜コーティングQCMセンサ
采用磁控溅射法的结晶磷灰石薄膜涂层QCM传感器
采用磁控溅射法的结晶磷灰石薄膜涂层QCM传感器
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[橋本 典也, 中西 康之, 田代 悠一郎, 三宅 晃子, 小正 聡, 新井 是宣, 岡崎 定司, 小正 裕, 馬場 俊輔, 本津 茂樹, 今井 弘一]
通讯作者：
今井 弘一
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