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Investigation of the mechanism of flaked particle generated in plasma etching
等离子刻蚀中片状颗粒产生机理的研究
基本信息
- 批准号：26870903
- 负责人：
- 金额：$ 2.41万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份：2014
- 资助国家：日本
- 起止时间：2014-04-01 至 2016-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（21）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Instantaneous generation of many flaked particles caused by micro-arc discharge and detection method using load impedance
微弧放电瞬间产生大量片状颗粒及负载阻抗检测方法
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：笠嶋悠司;上杉文彦
- 通讯作者：上杉文彦
Many flaked particles generated by electric field stress working as an impulsive force in mass-production plasma etching equipment
在量产等离子蚀刻设备中，电场应力作为脉冲力产生许多片状颗粒
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yuji Kasashima;Fumihiko Uesugi
- 通讯作者：Fumihiko Uesugi
Impulsive force phenomenon of electric field stress causing serious particle contamination in plasma etching equipment
- DOI：10.7567/jjap.53.110308
- 发表时间：2014-10
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Y. Kasashima;F. Uesugi
- 通讯作者：Y. Kasashima;F. Uesugi
Instantaneous generation of many flaked particles caused by micro-arc discharge and detection method using load impedance monitoring system
微弧放电引起的大量片状颗粒的瞬时产生及负载阻抗监测系统的检测方法
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yuji Kasashima;Taisei Motomura;Fumihiko Uesugi
- 通讯作者：Fumihiko Uesugi
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- 作者：
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Kasashima Yuji其他文献
Easy-to-use detection method for micro-arc discharge in plasma etching equipment by measuring current flowing to ground
通过测量流向地面的电流来检测等离子蚀刻设备中微弧放电的简便方法
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- 影响因子：1.5
- 作者：
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Kasashima Yuji
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22560787 - 财政年份：2010
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- 批准号：
21700252 - 财政年份：2009
- 资助金额：
$ 2.41万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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08F08610 - 财政年份：2008
- 资助金额：
$ 2.41万 - 项目类别：
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