Investigation of the mechanism of flaked particle generated in plasma etching
Investigation of the mechanism of flaked particle generated in plasma etching
等离子刻蚀中片状颗粒产生机理的研究
批准号：
26870903
负责人：
Kasashima Yuji
金额：
$2.41万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2016-03-31
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Instantaneous generation of many flaked particles caused by micro-arc discharge and detection method using load impedance
微弧放电瞬间产生大量片状颗粒及负载阻抗检测方法
微弧放电瞬间产生大量片状颗粒及负载阻抗检测方法
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[笠嶋悠司, 上杉文彦]
通讯作者：
上杉文彦
プラズマエッチング中の剥離パーティクルの突発的多量発生
等离子蚀刻过程中突然产生大量剥离颗粒
等离子蚀刻过程中突然产生大量剥离颗粒
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[笠嶋悠司, 本村大成, 上杉文彦]
通讯作者：
上杉文彦
Many flaked particles generated by electric field stress working as an impulsive force in mass-production plasma etching equipment
在量产等离子蚀刻设备中，电场应力作为脉冲力产生许多片状颗粒
在量产等离子蚀刻设备中，电场应力作为脉冲力产生许多片状颗粒
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
Proceedings of ICRP-9/SPP-33/GEC-68
影响因子：
--
作者：
[Yuji Kasashima, Fumihiko Uesugi]
通讯作者：
Fumihiko Uesugi
DOI：
10.7567/jjap.53.110308
发表时间：
2014-10
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
[Y. Kasashima;F. Uesugi]
通讯作者：
Y. Kasashima;F. Uesugi
Instantaneous generation of many flaked particles caused by micro-arc discharge and detection method using load impedance monitoring system
微弧放电引起的大量片状颗粒的瞬时产生及负载阻抗监测系统的检测方法
微弧放电引起的大量片状颗粒的瞬时产生及负载阻抗监测系统的检测方法
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
Proceedings of eMDC symposium & ISSM 2015
影响因子：
--
作者：
[Yuji Kasashima, Taisei Motomura, Fumihiko Uesugi]
通讯作者：
Fumihiko Uesugi
共 10 条
monitoring of change in plasma impedance caused by particle
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批准号：16K21676
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额：$2.58万
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财政年份：2016
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负责人：Kasashima Yuji
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依托单位：
海外基金