量子ドット構造による電子の制御と次世代エレクトロニクスへの応用
量子ドット構造による電子の制御と次世代エレクトロニクスへの応用
批准号:
12CE2004
负责人:
榊 裕之
金额:
$1092.42万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for COE Research
财政年份:
2000
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2000 至 2004
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英文摘要
(1)量子ドット関連構造の形成と電子状態の制御に関する研究成果(1-1)InAs系量子ドット:成長条件や被覆層の組成の最適化を進め、光通信に整合した1.5μmでの発光と、狭い蛍光線幅(〜16meV)を持つドットを実現した。また、GaAs層による埋込みをしない表面ドットが電子を蓄積し、電気的に活性であることを見出した。(1-2)GaSb系およびGaN系量子ドットとリング:成長プロセスを工夫すると、GaSbドットの代りに正孔のみを閉じ込める量子リング構造が自己形成できることを示した。また、GaSbドットをSi中に埋め込んだ系で、電子の状態に直接遷移的要素が交じり、強い蛍光の生じることを示した。さらに、GaNドットの形状を調整し、電子正孔の分離度の制御に成功した。(1-3)SiおよびGe系ドット:量子点接触素子内に自然にできるSiドットの形成法を検討し、2nm以下の極微ドットを実現した。Ge系ドットの寸法微細化と高密度化の道を開いた。(2)量子ドットと関連構造の伝導特性と素子応用に関する成果(2-1)Si単正孔トランジスタ(SHT)とInAs単電子トランジスタ(SET):SiMOS点接触構造内に自己形成するドットの微細化を進め、室温で40対1に及ぶクーロン振動と10対1を越す負性抵抗を示すSHTを実現、さらにGaAs表面の自己形成InAsドットを用いた新構造SETを実現、電子準位のシェル構造などを反映する特性を得た。(2-2)ドット埋め込みABリング素子:ABリング構造の一部に量子ドットを埋め込んだ素子を調べ、電子の位相シフトに伴うFano共鳴を反映した伝導とドット内の電子のスピン状態に依存する位相緩和過程を見出した。(2-3)量子ドット・量子細線アレー(列)の伝導特性:蜂の巣状のドット格子で、炭素ナノチューブと同様に電子散乱が抑制できること、量子細線列の伝導では、新規の磁気抵抗振動や電子の多体効果に由来する温度依存性を見出した。(2-4)量子ドットメモリー素子:極薄または極細伝導路の近傍にInAsやSiのドットを配したメモリー素子で、伝導電子と局在電子の相互作用や情報処理応用の特色を解明した。(3)量子ドットと関連構造の光物性と応用素子に関する成果(3-1)量子ドットレーザと単一光子発生素子:自己形成InAs量子ドットを用い、温度安定装置無しでも10Gb/sの直接変調可能なレーザを実現、1.3μm帯での単一光子素子を実現した。GaN系ドットで、より高温での単一光子の発生を実証した。(3-2)量子ドットと関連構造の光学特性の電界効果:GaN系ドットで、ピエゾ電界による電子・正孔の分離が強く効き、双励起子の発光が青方変位すること、自己形成GaSbドットやリングで電子・正孔間の引力とピエゾ電界が協業すること、InAsドットでの多体効果の電圧依存性に伴い電気光学効果が増すことを示した。また、量子構造での光による屈折率制御の特色も示した。(3-3)量子ドットおよび関連構造での中赤外・THz帯光応答:量子ドット内の正孔の数を中赤外光の照射で増減させた高感度の光検出器を実現、バイアス印加の超格子をフェムト秒レーザで励起し、テラヘルツ帯での利得の存在や特色を示した。(4)ナノ探針とマイクロマシンによる局所物性の評価と制御および新規ナノ物質の研究(4-1)マイクロマシンおよびマルチナノ探針:カンチレバーの変形により、埋込んだドットに加わる歪みやフォトニック結晶構造の等価屈折率を変化させ、発光や透過スペクトルの制御に成功した。Siのマイクロマシン技術で複数のナノ探針を作り、液中のDNAの捕捉を可能とした。静電制御カンチレバーと光起電力素子を一体化した素子を開発し、光信号による変形を可能とした。InAsドットとその周辺表面電位に関し、新知見を得た。(4-2)ナノ構造新規物質の物性と機能探索有機分子をチャネルとするFETの形成法に工夫を加え、高い正孔移動度を実現し、さらに感圧素子や感光素子との一体化により、折曲げ可能な光センサや人工触覚(皮膚)機能を達成した。また、銀表面上の水素分子の核スピンの状態の制御や高感度検出を可能とし、量子情報応用のための基礎的知見を得た。鉄シリサイドやマンガン酸化物材料のナノ構造も形成し、物性上の特色を明らかにした。
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DOI:
10.1143/jpsj.73.3351
发表时间:
2004-12-01
期刊:
JOURNAL OF THE PHYSICAL SOCIETY OF JAPAN
影响因子:
1.7
作者:
[Ando, T]
通讯作者:
Ando, T
Toshiro Hiramoto, H.Majima, Masumi Saitoh: "Quantum effects and single-electron charging effects in nano-scale silicon MOSFETs at room temperature"Materials Science and Engineering B. Vol.101, Issues 1-3. 24-27 (2003)
Toshiro Hiramoto、H.Majima、Masumi Saitoh:“室温下纳米级硅 MOSFET 中的量子效应和单电子充电效应”材料科学与工程 B. 第 101 卷,第 1-3 期。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Masumi Saitoh, Toshiro Hiramoto: "Room-Temperature Observation of Negative Differential Conductance Due to Large Quantum Level Spacing in Silicon Single-Electron Transistor"Japanese Journal of Applied Physics. Vol.43, No.2A. L210-L213 (2004)
Masumi Saitoh、Toshiro Hiramoto:“由于硅单电子晶体管中大量子能级间距而导致的负微分电导的室温观察”日本应用物理学杂志。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
DOI:
10.1103/physrevlett.94.057408
发表时间:
2005-02
期刊:
2005 IEEE LEOS Annual Meeting Conference Proceedings
影响因子:
--
作者:
[K. Hirakawa]
通讯作者:
K. Hirakawa
DOI:
10.1063/1.1868868
发表时间:
2005-02-14
期刊:
APPLIED PHYSICS LETTERS
影响因子:
4
作者:
[Sekitani, T, Kato, Y, Takagi, S]
通讯作者:
Takagi, S
共 231 条
先端量子ドット構造のエピタキシャル合成とその電子準位の制御に関する研究
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批准号:03F03652
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.77万
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财政年份:2003
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
先端量子ドット構造のエピタキシャル合成とその電子準位の制御
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批准号:03F00652
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.77万
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财政年份:2003
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
単一および少数量子ドット構造の電気・光応答と素子応用の研究
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批准号:01F00501
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2001
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
分子線エピタキシ-成長膜における拡散過程の解明と制御
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批准号:03243210
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.43万
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财政年份:1991
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
短周期超格子混晶における電子の量子準位と分散関係に関する研究
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批准号:61214001
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1986
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
短周期超格子混晶における電子の量子準位と分散関係に関する研究
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批准号:60222014
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$2.24万
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财政年份:1985
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
量子井戸および超格子構造を用いた新しい赤外・遠赤外光検出素子の開発
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批准号:56850091
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$3.2万
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财政年份:1981
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
スペクトル分割形複層太陽電池における効率決定要因の解明とその最適制御に関する研究
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批准号:56045037
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项目类别:Grant-in-Aid for Energy Research
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1981
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
半導体超薄膜における電子物性とデバイス応用に関する研究
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批准号:56122028
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项目类别:Grant-in-Aid for Specially Promoted Research
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资助金额:$168.13万
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财政年份:1981
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
分子線エピタキシーを用いたショットキ障壁の理想的形成法とその新しい制御法の研究
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批准号:X00090----555121
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.73万
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财政年份:1980
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
スペクトル分割形複層太陽電池における効率決定要因の解明とその最適制御に関する研究
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批准号:X00024----505530
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项目类别:Grant-in-Aid for Energy Research
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1980
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
光分波器を用いた超高効率太陽光光電変換器の研究
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批准号:X00120----385100
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$2.88万
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财政年份:1978
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
超薄膜Geを用いた2次元電子ガス素子の基礎研究
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批准号:X00090----355137
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1978
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
空間的に変調された量子薄膜中の電子の伝導現象に関する研究
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批准号:X00210----075108
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.23万
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财政年份:1975
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
光, 電界エッチングによる半導体表面精密加工法を用いた極めて精密なオプトエレクトロニクス素子の研究
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批准号:X00210----975142
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.19万
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财政年份:1974
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负责人:榊 裕之
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依托单位:
海外基金