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分子線エピタキシーを用いたショットキ障壁の理想的形成法とその新しい制御法の研究
肖特基势垒理想形成方法及分子束外延控制新方法研究
基本信息
- 批准号：X00090----555121
- 负责人：
- 金额：$ 1.73万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
- 财政年份：1980
- 资助国家：日本
- 起止时间：1980 至 1981
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
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会议论文数量（0）
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β-FeSi2エピタキシャル膜での直接遷移エネルギーと電気特性の相関
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ふしぎナゾ最前線!現代科学の限界にいどむ「ナノテクがみちびく科学の未来」, 榊裕之(監修)
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先端量子ドット構造のエピタキシャル合成とその電子準位の制御に関する研究
先进量子点结构的外延合成及其电子能级控制研究
- 批准号：
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- 批准号：
56850091 - 财政年份：1981
- 资助金额：
$ 1.73万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
スペクトル分割形複層太陽電池における効率決定要因の解明とその最適制御に関する研究
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- 批准号：
56045037 - 财政年份：1981
- 资助金额：
$ 1.73万 - 项目类别：
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半導体超薄膜における電子物性とデバイス応用に関する研究
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- 批准号：
56122028 - 财政年份：1981
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相似国自然基金
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CDT year 1 so TBC in Oct 2024
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