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超高真空システムを用いた光励起 CVD法による絶縁膜/GaAs界面の研究

超高真空システムを用いた光励起 CVD法による絶縁膜/GaAs界面の研究
超高真空光激发CVD法绝缘膜/GaAs界面研究
批准号:
59750231
负责人:
横山 新
金额:
$0.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1984
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1984 至 --
关键词:

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磁気光学リング共振器を用いた超小型高速光スイッチの研究
  • 批准号:
    16656110
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $2.18万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    横山 新
  • 依托单位:
電子ビーム励起原子層選択成長によるナノ構造形成法の研究
  • 批准号:
    14655122
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $1.86万
  • 财政年份:
    2002
  • 负责人:
    横山 新
  • 依托单位:
2重ゲート極微細MOSトランジスタによる単電子制御
  • 批准号:
    10127222
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
  • 资助金额:
    $0.77万
  • 财政年份:
    1998
  • 负责人:
    横山 新
  • 依托单位:
2重ゲート極微細MOSトランジスタによる単電子制御
  • 批准号:
    09233221
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $1.02万
  • 财政年份:
    1997
  • 负责人:
    横山 新
  • 依托单位: