Si基板上への高品質GaAsの低温成長
Si基板上への高品質GaAsの低温成長
批准号:
63750276
负责人:
横山 新
金额:
$0.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1988
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1988 至 --
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会议论文
磁気光学リング共振器を用いた超小型高速光スイッチの研究
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批准号:16656110
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.18万
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财政年份:2004
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负责人:横山 新
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依托单位:
電子ビーム励起原子層選択成長によるナノ構造形成法の研究
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批准号:14655122
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.86万
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财政年份:2002
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负责人:横山 新
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依托单位:
2重ゲート極微細MOSトランジスタによる単電子制御
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批准号:10127222
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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资助金额:$0.77万
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财政年份:1998
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负责人:横山 新
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依托单位:
2重ゲート極微細MOSトランジスタによる単電子制御
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批准号:09233221
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.02万
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财政年份:1997
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负责人:横山 新
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依托单位:
2重ゲート極微細MOSトランジスタによる単電子制御
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批准号:08247215
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1996
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负责人:横山 新
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依托单位:
GaAsのラテラルエピタキシー
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批准号:61750263
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1986
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负责人:横山 新
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依托单位:
極紫外光励起による結晶性絶縁膜の低温形成
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批准号:60550233
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.22万
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财政年份:1985
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负责人:横山 新
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依托单位:
超高真空システムを用いた光励起 CVD法による絶縁膜/GaAs界面の研究
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批准号:59750231
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1984
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负责人:横山 新
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依托单位: