Geometrisch-elektronische Eigenschaften von Metall-Chalkogenid-Schichtkristallstrukturen

不同的金属-硫化物-硫化物-晶状体系统不同，不同的是，不同的是不同的化学成分。[TS2]Neben FehlanpassungsVerbindungen des Typs[MS][TS2]，Be denen Schichten MIT einemüberangsmetall T and MIT einem Hauptgruppenmetall M abwechseln，Sollen Auch vertikaleúbergitter[TS][T‘S2]MIT Alternierendenäberangsmetallen unterauthht.我不是所有的人都知道这一点。这是一种不同的信息，不同的是，它们不同于传统，不同的是它们之间的相互作用，它们不同于传统的方法。

Es sollen strukturelle und elektronische Eigenschaften von ausgewählten Metall-Sulfid-Schichtkristallsystemen untersucht werden, die von uns epitaktisch Lage für Lage unter UHVBedingungen und von anderen Mitgliedern der Forschergruppe durch chemische Präparationsverfahren hergestellt werden. Neben Fehlanpassungsverbindungen des Typs[MS][TS2], bei denen Schichten mit einem Übergangsmetall T und mit einem Hauptgruppenmetall M abwechseln, sollen auch vertikale Übergitter [TS][T'S2] mit alternierenden Übergangsmetallen untersucht werden. Dabei werden vor allem oberflächenempfindliche Meßmethoden eingesetzt. Die Untersuchungen werden Information über Wachstumsvorgänge wie Bildung von Clustern, Inseln und Fehlstellen an Grenzflächen sowie Interkalation bei Bedeckung mit Alkalimetallen liefern, die spektroskopischen Methoden darüber hinaus Information über die elektronische Bandstruktur besetzter und unbesetzter Zustände und damit auch über die strukturelle Stabilität und zum mikroskopischen Verständnis der vielfältigen makroskopischen Phänomene der Systeme geben.