電解発生カチオン種の時空間的レドックス制御に基づく医薬分子合成プロセスの確立
電解発生カチオン種の時空間的レドックス制御に基づく医薬分子合成プロセスの確立
批准号:
22KJ1401
负责人:
岡本 一央
金额:
$2.83万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2023
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2023-03-08 至 2025-03-31
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今年度は、フロー電解系におけるカルボカチオン種の発生条件を探索するため、古典的な電解活性種であるフェノキソニウムカチオンをターゲットとして検討を進めた。その結果、本活性種を発生させうる最適条件を見出し、フェノール類とアルケン間の[3+2]環化付加反応を0.01M程度のごく希薄な支持電解質溶液中で高効率に実施することに成功した。種々の電気化学的測定により、マイクロリアクター内部では希薄電解質溶液でも十分な導電性が確保されていることが確認された。従来広く利用されてきた電極間距離の極めて小さいフロー電解条件では、陽極で生じたフェノキソニウムカチオンが即座に陰極還元を受けてしまい、目的の反応を進行させることが困難であったが、電極間距離を一定の広さへ拡張することでこの課題を解決することに成功した。生成物の酸化電位は基質とほぼ同程度であるものの、フロー電解系では連続的な送液により環化付加体が電極表面から空間的に隔絶されるため、生成物の過剰酸化が抑制される。また、今回用いたマイクロリアクターは新規に設計された組み立て容易な構造であり、なおかつ電極間にサンプル溶液を送液するのみの簡便な実験系であるためハイスループットな検討を行うことが可能である。さらに、本反応を利用することで、含窒素複素環であるジヒドロフロカルバゾール骨格の一挙構築にも成功した。電解反応は通電のみで様々な酸化・還元反応を実施できるという利点が存在する反面、有機溶媒へ導電性を付与するために過剰量の支持電解質を必要とする点が課題となっている。そのため、極めて短い電極間距離を有するフローマイクロリアクターを利用すれば、上述のように溶液抵抗を抑えることで支持電解質の添加量を大幅に削減した高効率な合成プロセスを構築することが可能となる。
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酸化電位ギャップ(ΔEox)を指標とした電解レドックス系におけるアリール類の反応性評価
以氧化电位差(ΔEox)为指标评价电解氧化还原体系中芳基的反应活性
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
--
作者:
[岡本一央, 信田尚毅, 森住春香, 北野克和, 千葉一裕]
通讯作者:
千葉一裕
反応場のドナー性制御に基づくピロロフェナンスリドンアルカロイド類の電解合成
基于反应场供体控制的吡咯并菲啶酮生物碱的电解合成
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[岡本一央, 千葉一裕]
通讯作者:
千葉一裕
Scalable Synthesis of Versatile Intermediate for Azanucleoside Derivatives Via directanodic N-α Hydroxylation
通过直接阳极 N-α 羟基化可大规模合成氮杂核苷衍生物的多功能中间体
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Yuma Kurose, Kazuhiro Okamoto, Yohei Okada, Yoshikazu Kitano, Kazuhiro Chiba]
通讯作者:
Kazuhiro Chiba
電解フローマイクロリアクターを用いる反応条件スクリーニングによる生産速度最大化の検討
使用电解流微反应器筛选反应条件来检验生产率最大化
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
--
作者:
[中村悠人, 岡本一央, 信田尚毅, 跡部真人]
通讯作者:
跡部真人
Oxidation Potential Gap (ΔEox): The Hidden Parameter in Redox Chemistry
氧化电位差 (ΔEox):氧化还原化学中的隐藏参数
DOI:
10.1002/anie.202206064
发表时间:
2022
期刊:
Angew. Chem. Int. Ed.
影响因子:
--
作者:
[Okamoto, K.; Shida, N.; Morizumi, H.; Kitano, Y.; Chiba, K.]
通讯作者:
K.
共 12 条
Development of Electrochemical Synthon and Utilize for the Construction of Alkaloid Core Structure
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批准号:20J11925
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2020
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负责人:岡本 一央
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依托单位:
海外基金