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Strömungskinematik in Hohlkathoden - Plasmajet - Entladungen für Oberflächenprozesse

Strömungskinematik in Hohlkathoden - Plasmajet - Entladungen für Oberflächenprozesse
空心阴极中的流动运动学 - 等离子射流 - 表面处理放电
批准号:
5208030
负责人:
Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
1999
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1998-12-31 至 2002-12-31

项目摘要

项目成果

Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann的其他基金

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中文摘要
翻译
在此基础上,我们将以技术为基础,从材料和工艺两个方面入手。他说:“我的意思是,这是一种同种的天然气,它的体积很大。”从安纳姆那里得到的是现实的终结。Sich?ndernden Lastzuständen(Beladung MIT Substrten and Generell der Geomrischen Skalierung.Mehr noch:ZielMu?sein,das gesamte plmassis system,wals die plmaerzeugenden Komponenten ALS子系统tenält,zu berück sichtigen)。在此基础上,提出了一种新的等离子体模拟方法--Gasströmung im Gesamesystem Sind Simultan Sind Sind Simultan Sind Simultan zu-berküchsichtigengengen.Am Beispiel einer im FMT entwickelten and Technology isch to en 13,56 MHz Holhlkathoden Placterndsichdsichgesrazelle(HCD-L-300)Sollen Erstzeitititig Prägritte in Diessier Richung,即Euminer fassenderen Feld and Ströggeggangen,um ebessere Bessere Bessere-Bessere Buckzeizeizeizeige Feld-Set Schritte(HCD-300)Sollen Erstzeitititig Präste Schritte,即Euminer fassenderen Feld and Strögmungegangen n o n在ArbeitsMethodischer Reihenfolge umfa?t die:1.实现了CFD-Programmpaketes(Fluent,Fa.流利公司,黎巴嫩,NH,美国),2.Berück sichtigung原子和分子Gase(Strömungsverhalten and-geschwindigkeiten,Verweildauer der Spezies im system)和3.Korrelationder StrömungsSimulation MIT Ergebnissen Aus Feldrechnungen(Mafia,Fa.CST-Gesellschaft für Computer Simulationstechnik MBH,Darmstadt)。
英文摘要
Die Leistungsfähigkeit von Plasmaquellen für die Materialwissenschaft /-technologie wird nach heutigem Stand bevorzugt auf der Basis der elektrischen Leistungsbilanz bewertet. Dieses Vorgehen impliziert eine homogene Gasströmung bei gleichzeitig fester Residenzzeit von Primär-Gaspartikeln im plasmaanregenden Volumen. Eine derartige Annahme ist unzureichend und realitätsfern. Die daraus resultierenden Schwierigkeiten werden besonders deutlich bei sich ändernden Betriebsparametern der Quellen, sich ändernden Lastzuständen (Beladung mit Substraten und generell der geometrischen Skalierung.Mehr noch: Ziel muß sein, das gesamte Plasmasystem, welches die plasmaerzeugenden Komponenten als Subsystem enthält, zu berücksichtigen. Sowohl die elektrische Leistungskopplung mit dem Plasma als Last als auch die gleichzeitig präsente Druck- und Geometrie abhängige Gasströmung im Gesamtsystem sind simultan zu berücksichtigen.Am Beispiel einer im fmt entwickelten und technologisch relevanten 13,56 MHz Hohlkathoden Plasmajet-Plasmaquelle (HCD L-300) sollen erste Schritte in dieser Richtung, i.e. einer umfassenderen Feld- und Strömungssimulation gegangen werden, um eine bessere Basis für die Konzeption leistungsfähigerer Plasma- und Radikalenquellen bei gleichzeitiger Berücksichtigung des gesamtem Prozeßraumes in einem ausgedehnten Arbeitsdruckbereich zu erhalten. In arbeitsmethodischer Reihenfolge umfaßt dies: 1. Implementierung eines CFD-Programmpaketes (FLUENT, Fa. Fluent Inc., Lebanon, NH, USA), 2. Berücksichtigung atomarer und molekularer Gase (Strömungsverhalten und -geschwindigkeiten, Verweildauer der Spezies im System) und 3. Korrelation der Strömungssimulation mit Ergebnissen aus Feldrechnungen (MAFIA, Fa. CST-Gesellschaft für Computer Simulationstechnik mbH, Darmstadt).
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会议论文
Untersuchung von dielektrisch behinderten Oberflächenentladungen für den Einsatz als Remote-Plasmaquellen bei Atmosphärendruck
  • 批准号:
    5426019
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
  • 依托单位:
Monomer return flow in hollow cathode jet plasma sources for film deposition
  • 批准号:
    5403111
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2003
  • 负责人:
    Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
  • 依托单位:
High frequency (Radio frequency) hollow cathode discharge matrixes at atmospheric pressure for surface deposition, modification and cleaning
  • 批准号:
    5266496
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2000
  • 负责人:
    Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
  • 依托单位:
Großflächige Plasmaquellen mit Multijet-Hohlkathoden-Hochfrequenz-Entladung: Untersuchung, Modellierung und Simulation
  • 批准号:
    5123426
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    1998
  • 负责人:
    Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
  • 依托单位: