Untersuchung der Adsorption und des Wachstums von Edelgasschichten mittels Tieftemperatur-Rasterkraftmikroskopie
使用低温原子力显微镜研究稀有气体层的吸附和生长
基本信息
- 批准号:5213772
- 负责人:
- 金额:--
- 依托单位:
- 依托单位国家:德国
- 项目类别:Research Grants
- 财政年份:1999
- 资助国家:德国
- 起止时间:1998-12-31 至 2002-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Im Rahmen des geplanten Forschungsvorhabens sollen fundamentale Experimente zu Adsorption und Wachstum von Edelgasschichten mittels Tieftemperatur-Rasterkraftmikroskopie durchgeführt werden. Dabei soll erstmals ein neuer Meßmodus eingesetzt werden, welcher ortsaufgelöst und dreidimensional die Messung des Spitzen-Proben-Wechselwirkungspotentials erlaubt. Mit diesem Meßmodus werden adsorbierte Xenonschichten vom Submonolagenbereich bis hin zu dicken Schichten sowohl auf leitenden als auch auf nichtleitenden Substraten untersucht und ihre Struktur aufgeklärt. Durch Korrelation der Strukturdaten mit den Ergebnissen der Potentialmessungen werden neue Einblicke in Adsorption und Wachstum von Edelgasen speziell an Stufen und in der Umgebung von Defekten erwartet. Abschließende Untersuchungen widmen sich dem Adsorptionsverhalten einzelner Xenonatome bis hin zu deren gezielter Manipulation.
通过韦尔登温度测量仪测量Edelgasschichten的吸附和水分的基本实验研究。Dabei soll estmals an neuer Meßmodus eingesetzt韦尔登,welcher ortsaufgelöst and dreidimensional die Messung des Spitzen-Proben-Wechselecting kungspotentials erlaubt. Mit diesem Meßmodus韦尔登吸附Xenonschichten vom Submonolagenbereich bis hin zu dicken Schichten sowohl auf leitenden als auch auf nichtleitenden Substraten untersucht und ihre Struktur aufgeklärt.结构数据的相关性与潜在的韦尔登测量值的相关性在吸附和吸附过程中产生新的阻力,并在膨胀过程中产生阻力。通过操作,可使吸附剂的吸附量降低到一个Xenonatome。
项目成果
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