低温プラズマCVDによる多層有機薄膜の形成

低温等离子体CVD形成多层有机薄膜

基本信息

  • 批准号:
    61550011
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.28万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    1986
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1986 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

1.本研究の目的多機能複合有機薄膜の作成とその応用a)有機色素の高分子薄膜化プラズマCVD法の利点を活し、有機色素を蒸発させると同時に高分子薄膜化する。b)有機光電変換素子としての応用上記で得られる色素薄膜と電極金属界面,あるいは異種色素間の界面でのポテンシァル障壁を利用し、光電変換素子を試作する。2.研究実績の概要a)有機色素のプラズマCVD法による高分子薄膜化色素として、光電効果の大きなメロシアニン系のものを用い薄膜形成に成功。〈得られた知見〉(【i】).プラズマ重合膜は、単なる真空蒸着膜に比べて、結晶化の進展もなく、長期に安定な膜質が得られた。(【ii】).メロシアニン色素高分子膜はALなどの電極との界面で、ショトキーバリアを形成していることが判り、光電変換素子への応用の可能性が示唆された。b)有機色素薄膜の多層化有機薄膜の多層化が光電変換効率向上に重要と思われたので薄膜重合中に、多層化を試みたが、現時点で良好な結果は得られてい
1. の purpose this study more functional composite organic film の made と そ の 応 organic pigment の polymer film with a) the プ ラ ズ マ CVD method の tartness を し live steam, organic pigment を 発 さ せ る と while に polymer film す る. B) organic photoelectric variations in grain son と し て の 応 using で must remember ら れ る coloring film と electrode metal interface, あ る い は の interface between dissimilar pigment で の ポ テ ン シ ァ ル barrier を using し, photoelectric variations in grain す を try son る. 2. Research be performance の profile a) organic pigment の プ ラ ズ マ CVD method に よ る polymer film the pigment と し て, large photoelectric unseen fruit の き な メ ロ シ ア ニ ン is の も の を in film formation に い succeed. < to ら れ た knowledge > (【 I 】). プ ラ ズ マ overlap membrane は, 単 な る vacuum steamed film に than べ て, crystallization の progress も な く, long-term に stability な membranous が ら れ た. ([ii]). メ ロ シ ア ニ ン pigment polymer film は AL な ど の electrode と の interface で, シ ョ ト キ ー バ リ ア を form し て い る こ と が り, photoelectric variations in grain son へ の 応 use が の possibility to show business さ れ た. B) organic pigment membrane の multiple stratification organic film の multiple stratification が photoelectric - in sharper rate upward に important と think わ れ た の で film に in coincidence, multiple stratification を try み た が, present the result of good point で な は ら れ て い

项目成果

期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
M.Inoue;H.Morita;Y.Takai;T.Mizutani;M.Ieda: Japan.J.Appl.Phys.25. 1495-1499 (1986)
M.Inoue;H.Morita;Y.Takai;T.Mizutani;M.Ieda:Japan.J.Appl.Phys.25。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
井上真澄,森田浩正,高井吉明,水谷照吉,家田正之: 電気学会絶縁材料研究会. EIM86-104. 1-10 (1986)
Masumi Inoue、Hiromasa Morita、Yoshiaki Takai、Terukichi Mizutani、Masayuki Ieda:日本电气工程师学会绝缘材料研究组 EIM86-104。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
森田浩正,高井吉明,水谷照吉,家田正之: 電子通信学会電子部品研究会. CPM86-117. 11-16 (1987)
Hiromasa Morita、Yoshiaki Takai、Terukichi Mizutani、Masayuki Ieda:电子与通信工程师学会电子元件研究组 CPM86-117 (1987)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Y.TAKAI;Y.Hayase;T.Mizutani;M.Ieda: J.Phys.D:Appl.Phys.19. 115-125 (1986)
Y.TAKAI;Y.Hayase;T.Mizutani;M.Ieda:J.Phys.D:Appl.Phys.19。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
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