Chemie, Struktur und Eigenschaften von Laser-CVD-Silicium

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Das grundlegende Verständnis von Zusammenhängen zwischen der Gasphasenchemie von sauerstoffhaltigen Siliciumverbindungen HxSiyOz und der Entstehung von Festkörpern durch Bildung von Si-Si- und Si-O-Bindungen soll durch experimentelle Untersuchungen vertieft werden. Als Modell soll die laserinduzierte Gasphasenchemie von H-Silasesquioxanen (HSiO1,5)n dienen, wobei die möglichen Verknüpfungen von Silasesquioxan-Molekülen als Elementarschritte für die dreidimensionale Netzwerkbildung angesehen werden. Speziell sollen photochemische Primärschritte in Abhängigkeit von der Anregungswellenlänge ermittelt und zur Steuerung der Vernetzung genutzt werden. Hierfür sollen die UV- und Vakuum-UV-spektralen Eigenschaften der H-Silasesquioxane (HSiO1,5)n für n = 4,6,8,...16 untersucht werden.