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ホットウォール・エピタキシャル法による超格子・酸化物薄膜の作成とその化学的応用

ホットウォール・エピタキシャル法による超格子・酸化物薄膜の作成とその化学的応用
热壁外延法制备超晶格/氧化物薄膜及其化学应用
批准号:
02855193
负责人:
東 直人
金额:
$0.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1990
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1990 至 --
关键词:

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反応生成物収率向上のための原料非定常フィードシステムの構築
  • 批准号:
    17656257
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $2.18万
  • 财政年份:
    2005
  • 负责人:
    東 直人
  • 依托单位:
メタノール直接合成複合触媒の開発・研究
  • 批准号:
    09750853
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $1.34万
  • 财政年份:
    1997
  • 负责人:
    東 直人
  • 依托单位:
アルコキシド法による酸化ルテニウム薄膜の作製・評価と機能化
  • 批准号:
    08750906
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.64万
  • 财政年份:
    1996
  • 负责人:
    東 直人
  • 依托单位:
ニッケルをドープしたシリカアルミノリン酸塩ゼオライトの調整・評価
  • 批准号:
    07750863
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.64万
  • 财政年份:
    1995
  • 负责人:
    東 直人
  • 依托单位: