新しい磁気記録媒体の試作と特性

新型磁记录介质的原型及特点

基本信息

  • 批准号:
    02650218
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.41万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    1990
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1990 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では、よりプラズマフリ-の状態で膜を形成するため、現在使用中のトロイダルプラズマ式スパッタ装置のプレ-ナリングタ-ゲット(以下タ-ゲットとする)電極を改良した。磁界の発生にはNdFeB永久磁石を用い、タ-ゲットの中心と外周に配置した。当初、タ-ゲットに純度99.9%,3mm厚のNdFeB合金を用いる予定であったが、作製が困難で価格が高いためにFeタ-ゲット上にNd,Bのチップを配置した同時スパッタ法を採用した。手初めとして、Arガス中でFeタ-ゲットを装着したときの装置の放電およびスパッタ特性を直流電力計を併用して測定した。新たな知見としは、まず磁石の材質・配置を変えたためにタ-ゲット上の平行な磁界成分が強くなり、高エネルギ-γ電子のサイクロイド運動がタ-ゲット全面で活発になり、封じ込めが完全になる。そのためにより低Arガス圧まで放電が持続すると考えていたが、実際には10mTorrであり、γ電子の封じ込めが磁界の水平成分の大小に依存しないことが明確になった。そこで電磁石で磁界を発生させ、タ-ゲット面に平行並びに垂直な磁界成分の働きをCoーCr,NiFe,CoZrNbなどのタ-ゲットを用いて調べた。その結果、垂直成分が平行成分よりも、つまりはγ電子の螺旋運動がサイクロイド運動よりも雰囲気ガスの電離に重要な働きをすることが明らかにされた。しかし、従来法よりはタ-ゲットの浸蝕領域が広くなり、安定な放電が持続し、タ-ゲット印加電圧が250Vと非常に低下した。このことは、垂直な磁界成分が増加するように磁石を配置すれば、高エネルギ-γ電子の封じ込めが強くなり、よりプラズマフリ-の状態で膜が形成できると考えてよい。また、プラズマポテンシャル測定装置を用いてタ-ゲット付近のプラズマポテンシャルを測定した結果、トロイダルプラズマの形成が確認された。今後、プラズマと膜の構造・特性との関係並びに記録媒体としての可能性について調べる。
In this study, the film was formed in the state of being in use and the electrode was improved. The magnetic field of NdFeB permanent magnets is formed in the center and periphery of the magnet. At the beginning, the purity of Nd,B is 99.9%, and the thickness of NdFeB alloy is 3 mm. In the beginning, the Fe content of the device was measured by DC power meter. New knowledge of the material and configuration of the magnet, the magnetic field component on the magnetic field, the magnetic field component on the magnetic field component, the magnetic field component on the magnetic field component, the magnetic The magnetic field is composed of the following components: low Ar and low Ar, high Ar and low Ar. The magnetic field of the electromagnet is generated in parallel and perpendicular to the magnetic field. The composition of the electromagnet is Co Cr,NiFe,CoZrNb. As a result, vertical components, parallel components, helical motion of gamma electrons, ionization of gamma electrons, and ionization of gamma electrons are important. The voltage is 250V, which is very low. The magnetic field composition increases, and the magnetic field density increases. The results of the tests were confirmed. In the future, the relationship between the structure and characteristics of the film and the possibility of recording the medium will be adjusted.

项目成果

期刊论文数量(2)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Takakazu TAKAHASHI: "Annealing Dependence of Coercivity,Anisotropy Field and Resitivity for Amorphous CoZrNb Films Deposited by DC Planar Magnetron Sputtering" Journal of Applied Physics. 4月. (1991)
Takakazu TAKAHASHI:“直流平面磁控管溅射沉积的非晶 CoZrNb 薄膜的退火依赖性”(1991 年)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Takakazu TAKAHASHI: "A Comparative Study of CoZrNb and NiFe Targets in Discharge and Sputtering Using Plasma Confining Type of Magnetron Sputtering Method" IEEE Transactions on Magnetics. 26. 1494-1496 (1990)
Takakazu TAKAHASHI:“使用等离子限制型磁控溅射方法对 CoZrNb 和 NiFe 靶材进行放电和溅射的比较研究”IEEE 磁学学报。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

高橋 隆一其他文献

高橋 隆一的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('高橋 隆一', 18)}}的其他基金

可視光反応型光触媒スパッタ膜の形成と有機化合物の分解
可见光反应光催化溅射薄膜的形成及有机化合物的分解
  • 批准号:
    04F04380
  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows

相似国自然基金

高性能薄膜铌酸锂光子芯片及其TSV集成与异构封装技术研究
  • 批准号:
    JCZRQN202501306
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
VO2相变材料基准光学纳米腔结构的宽温域自适应热隐身薄膜设计
  • 批准号:
    JCZRQN202500547
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
石墨烯基自适应双模辐射热管理薄膜的构筑与性能研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
空间激光通信薄膜铌酸锂调制器研发
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
超宽禁带金红石结构氧化锗薄膜的p型掺杂调控及其功率电子器件研究
  • 批准号:
    QN25F040011
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
基于化学设计PbI2层优化钙钛矿薄膜质量及光伏器件性能研究
  • 批准号:
    QN25F040017
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
二维材料图案化薄膜热梯度无损转印技术研究
  • 批准号:
    ZYQ25A020001
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
基于LiNbO₃单晶薄膜的铁电突触及其神经形态触觉感知研究
  • 批准号:
    MS25F040015
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
氧化物半导体单晶薄膜外延剥离及物性研究
  • 批准号:
    R25E020012
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
有序介孔感知薄膜的原位组装及智能柔性气体传感器应用研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目

相似海外基金

次世代磁気記録媒体ナノ粒子薄膜の新規作製と特性制御
下一代磁记录介质纳米粒子薄膜的新制备和性能控制
  • 批准号:
    17560302
  • 财政年份:
    2005
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
多層人工格子薄膜を用いた次世代型磁気記録媒体の記録再生特性改善に関する研究
利用多层人工晶格薄膜改善下一代磁记录介质的记录和再现特性的研究
  • 批准号:
    04J01690
  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
磁気記録媒体用コバルト-モリブデンとコバルト-タングステン基合金薄膜のミクロ組織制御
磁记录介质用钴钼和钴钨基合金薄膜的微观结构控制
  • 批准号:
    04F04511
  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
高密度垂直磁気記録媒体用Sm-Co薄膜の開発と応用
高密度垂直磁记录介质Sm-Co薄膜的开发及应用
  • 批准号:
    14750259
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
島状シード層導入による薄膜磁気記録媒体の結晶粒制御と低ノイズ化に関する研究
引入岛状种子层的薄膜磁记录介质晶粒控制和降噪研究
  • 批准号:
    01J08201
  • 财政年份:
    2001
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
粒子状磁気記録媒体薄膜作成のための完全熱化高ガス圧スパッタ技術の開発
开发用于制造颗粒磁记录介质薄膜的全热高气压溅射技术
  • 批准号:
    09650379
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
イオンアシスト蒸着法によるフェライト薄膜の低温成膜と光磁気記録媒体への応用研究
离子辅助气相沉积铁氧体薄膜的低温形成及其在磁光记录介质中的应用
  • 批准号:
    04750247
  • 财政年份:
    1992
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
ゾル・ゲル/熱分解法によるフェライト薄膜の低温成膜と光磁気記録媒体への応用研究
溶胶-凝胶/热解法低温形成铁氧体薄膜及其在磁光记录介质中的应用研究
  • 批准号:
    03750220
  • 财政年份:
    1991
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
スパッタ法による遷移金属リン化物磁性薄膜の合成と光磁気記録媒体への応用研究
溅射法合成过渡金属磷化物磁性薄膜及其在磁光记录介质中的应用研究
  • 批准号:
    02750210
  • 财政年份:
    1990
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
スパッタ法による垂直磁気記録媒体用マグネトプラムバイト型フェライト薄膜の作製
溅射法制备垂直磁记录介质用磁铅石型铁氧体薄膜
  • 批准号:
    56550211
  • 财政年份:
    1981
  • 资助金额:
    $ 1.41万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了