Reaction kinetics of the chemical vapour deposition of Titaniumdiboride from Titaniumtetrachloride and Borontrichloride considering the retarding influence of HCl

Be formgebenden Prozessen wird Tiandiborid wegen seiner Chemischen Beständigkeit and Hohen Häre U.S.A.ALS Verschlei？schutzschicht auf Werkzeugen eingesetzt.Für eine Gleichmäçige Beschichtung komplexer Bauteile is im Printzip die Chemische Gabasenabscheidung(CVD)geeignet.在过敏的情况下，我不知道怎么做才好，因为我不知道怎么做，也不知道为什么。他说：“这是一件非常重要的事情。”L女士说，这是一件很有意义的事情。钛硼化物(TiB2)Aus TiCl4-BCl3-Gemischen Mittels thermischen CVD abzuscheiden and die Abscheiderten in it zu Messen.大足是由TiCl4、BCl3、H2、Ar和HCl组成的Sowie Strömungsgeschwindigkeit和De温度系统变化。Aus den所以gewonnenen实验数据在运动学中的Abscheidemodell公式，das den zuévon HCl berück sichtigt和模具模拟和模具模拟的过程中的错误和在Ausleung von CVD-Reaktoren Darstellt。苏德姆·索伦死后，他的性格就会变得很不好，嗯，嗯，这是一件很重要的事情。

Bei formgebenden Prozessen wird Titandiborid wegen seiner chemischen Beständigkeit und hohen Härte u.a. als Verschleißschutzschicht auf Werkzeugen eingesetzt. Für eine gleichmäßige Beschichtung komplexer Bauteile ist im Prinzip die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) geeignet. Voraussetzung ist allerdings, daß die Abscheidung im reaktionskontrollierten Bereich erfolgt, da nur so eine gleichmäßige Beschichtung auch innerhalb komplizierter Geometrien gewährleistet ist. Die Kinetik der Abscheidprozesse muß also möglichst detailliert bekannt sein. Sie läßt sich nach heutigem Wissensstand nur experimentell ermitteln. Ziel dieses Projektes ist es, Titandiborid (TiB2) aus TiCl4-BCl3-Gemischen mittels thermischen CVD abzuscheiden und die Abscheideraten in situ zu messen. Dazu werden die Partialdrücke von TiCl4, BCl3, H2, Ar und HCl sowie die Strömungsgeschwindigkeit und die Temperatur systematisch variiert. Aus den so gewonnenen experimentellen Daten wird ein kinetisches Abscheidemodell formuliert, das den zu erwartenden retardierenden Einfluß von HCl berücksichtigt und die Simulation des CVD-Prozesses erlaubt und somit ein Werkzeug für die Auslegung von CVD-Reaktoren darstellt. Zudem sollen die abgeschiedenen Schichten charakterisiert werden, um den Bereich der reinen TiB2-Abscheidung zu beschreiben.