Reaction kinetics of the chemical vapour deposition of Titaniumdiboride from Titaniumtetrachloride and Borontrichloride considering the retarding influence of HCl

考虑HCl延迟影响的四氯化钛和三氯化硼化学气相沉积二硼化钛的反应动力学

• 批准号: 5241730
• 负责人: Professor Dr.-Ing. Dieter Neuschütz
• 金额: --
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2000
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1999-12-31 至 2002-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5241730?language=en
• 关键词: Reaction; kinetics; chemical; vapour; deposition

Bei formgebenden Prozessen wird Titandiborid wegen seiner chemischen Beständigkeit und hohen Härte u.a. als Verschleißschutzschicht auf Werkzeugen eingesetzt. Für eine gleichmäßige Beschichtung komplexer Bauteile ist im Prinzip die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) geeignet. Voraussetzung ist allerdings, daß die Abscheidung im reaktionskontrollierten Bereich erfolgt, da nur so eine gleichmäßige Beschichtung auch innerhalb komplizierter Geometrien gewährleistet ist. Die Kinetik der Abscheidprozesse muß also möglichst detailliert bekannt sein. Sie läßt sich nach heutigem Wissensstand nur experimentell ermitteln. Ziel dieses Projektes ist es, Titandiborid (TiB2) aus TiCl4-BCl3-Gemischen mittels thermischen CVD abzuscheiden und die Abscheideraten in situ zu messen. Dazu werden die Partialdrücke von TiCl4, BCl3, H2, Ar und HCl sowie die Strömungsgeschwindigkeit und die Temperatur systematisch variiert. Aus den so gewonnenen experimentellen Daten wird ein kinetisches Abscheidemodell formuliert, das den zu erwartenden retardierenden Einfluß von HCl berücksichtigt und die Simulation des CVD-Prozesses erlaubt und somit ein Werkzeug für die Auslegung von CVD-Reaktoren darstellt. Zudem sollen die abgeschiedenen Schichten charakterisiert werden, um den Bereich der reinen TiB2-Abscheidung zu beschreiben.

我们将通过化学方法和Härte u.a.这是一种工具性的视觉艺术。Für eine gleichmäßige Beschichtung komplexer Bauteile ist im Prinzip die chemische Gasphasenabscheidung（CVD）geeignet. Voraussetzung is allerdings，dadecdie Abscheidung im reaktionskontrollierten Bereich erfolgt，da努尔so eine gleichmäßige Beschichtung auch innerhalb komplizierter Geometrien gewährleistet ist ist. Die Kinetik der Abscheidprozesse moophole also möglichst detailliert bekannt sein.你只需要做实验就能获得最好的知识。该项目是由TiCl 4-BCl 3-Gemischen方法制备的TiB 2化合物，通过热化学气相沉积法进行原位分离。韦尔登采用TiCl 4、BCl 3、H2、Ar和HCl等部分化学试剂，使反应温度和体系温度发生变化。从实验数据中可以得到一个动力学模型公式，用于减缓HCl的影响和模拟CVD过程，并为CVD反应器的设计提供一个工具。因此，必须解决具有韦尔登特性的轮胎，才能将TiB 2-Abscheidung重新用于轮胎。