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パルスレーザーアブレーションによる酸化物超伝導体薄膜の形成

パルスレーザーアブレーションによる酸化物超伝導体薄膜の形成
脉冲激光烧蚀形成氧化物超导薄膜
批准号：
03750002
负责人：
江龍 修
金额：
$0.58万
依托单位：
University of Tsukuba
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1991
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1991 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-03750002/
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皮膚の湿度を解析するためのピエゾエレクトリックセンサの開発
  • 批准号：
    14F04812
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.47万
  • 财政年份：
    2014
  • 负责人：
    江龍 修
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology
単結晶刀具の為のSiC結晶成長の研究
  • 批准号：
    20656025
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 资助金额：
    $1.73万
  • 财政年份：
    2008
  • 负责人：
    江龍 修
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology
レーザード-ピング法による高品位赤外発光Si基板の形成
  • 批准号：
    08750364
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $0.58万
  • 财政年份：
    1996
  • 负责人：
    江龍 修
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology
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  • 批准号：
    07855037
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $0.51万
  • 财政年份：
    1995
  • 负责人：
    江龍 修
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology