Study on generating a flat for Molecular Beam Epitaxy

分子束外延平面生成的研究

• 批准号: 04402023
• 负责人: FURUKAWA Yuuji
• 金额: $ 20.22万
• 依托单位: Tokyo Metropolitan University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (A)
• 财政年份: 1992
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1992 至 1993
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-04402023/
• 关键词: Molecular Beam Epitaxy; Ultra Precision Machining

This study has clarified a possibility to apply a Molecular Beam Epitaxy (MBE) to generate a geometrically flat and crystallography aligned surface. The method is often used to prepara new semi-conductive materials, however, the mechanism how a geometric surface for mechanical use is built up by a deposition of molecules is not known. Taking a homo-epitaxial case as an example, silicon molecular beam was deposited onto a single crystallized silicon substrate, and that process investigated by the help of RHEEDS.A newly obtained surface had better crystalline than that of substrates.

本研究阐明了应用分子束外延（MBE）产生几何平坦和晶体学对准表面的可能性。该方法通常用于制备新的半导体材料，然而，如何通过分子沉积建立用于机械用途的几何表面的机制尚不清楚。以同质外延为例，利用RHEEDS研究了硅分子束在单晶硅衬底上的沉积过程，得到了比衬底更好的结晶表面。

项目成果

古川 勇二 他3名: "分子線エピタキシによる超精密加工(第1報)" 1993年度精密工学会学術講演会講演論文集. 963-964 (1993)

Yuji Furukawa 等 3 人：“使用分子束外延的超精密加工（第 1 次报告）”1993 年精密工程学会学术会议记录 963-964（1993）。

Y.Furukawa et. al: "Ultra Precision Machining for Molecular Beam Epitaxy" Preprint of JSPE. 963-964 (1993)

Y.古川等。

古川 勇二,諸貫 信行,角田 陽: "分子線エピタキシによる超精密加工(第1報)" 精密工学会春季大会学術講演会講演論文集. (1993)

Yuji Furukawa、Nobuyuki Moronuki、Yo Tsunoda：“分子束外延超精密加工（第一次报告）”日本精密工程学会春季会议论文集（1993 年）。