Photodesorption of simple molecules from ultra-thin metal-films as a probe of electrodynamics

点击翻译按钮获取中文摘要

Die Photodesorption einfacher Moleküle wie NO, CO und NH3 von Metalloberflächen wird durch einen Mechanismus dominiert, bei dem der eigentliche Desorptionsprozeß durch einen Elektronentransferprozeß photogenerierter, heißer Elektronen zum Adsorbat ausgelöst wird. In diesem Bild ist die Photodesorption durch drei grundlegende Eigenschaften maßgeblich bestimmt:a) die Bindung des Adsorbats an das Substrat,b) die optischen Absorptionseigenschaften des Substratsund c) die Transporteigenschaften heißer Elektronen im Substrat.Diese drei Eigenschaften werden physikalisch auf verschiedenen Längenskalen bestimmt: den 3 obersten Lagen des Substrats, der optischen Eindringtiefe des Lichts und der freien Weglänge der heißen Elektronen. Es sollen Halbleiter-Metall-Schichtsysteme verwendet werden, um diese drei Eigenschaften gezielt zu variieren. Dabei sollen die Photodesorptionsquerschnitte und die Zustandsverteilungen der desorbierten Moleküle für verschiedene Schichtdicken und Anregungsenergien bestimmt werden. Dadurch sollen die gegenwärtigen Modellvorstellungen geprüft und weiterentwickelt werden.