Production and surface improvement of functional materials by using DC arc, RF,magnetron plasma.

利用直流电弧、射频、磁控等离子体进行功能材料的生产及表面改性。

基本信息

  • 批准号:
    05555189
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.56万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    1993
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1993 至 1994
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

An establishment in the synthesizing conditions of high functional materials for industrial production and an improvement in joinability of surface treatment were aimed by conducting some small experiments using a large scale experimental plasma CVD reactor with a special spectrometer financially supported by this project.The main program in this project were not changed, but will be finished in a few month later than initial plan due to the small delay in a adjustment of measurements system. Main obtained experimental results are as follows ;(1)An expression of the spatial distributions for the active radical ion species in DC arc plasma such as C,C_2, CH,CH_2, CH_3 and CH^<3+> was performed by special spectrometer. Using this techniques, an establishment in the synthesizing conditions of high functional materials was experienced through spectrometrical results.(2)Polycrystaline bur small diamond film and block was synthesized on several refractory substratum metala. Numbers in nucleating sites than growth rate were much influenced by the reaction between substratum surface and radical ions exited in DC arc plasma.(3)Using above mentioned CVD reactor, powder spray or coatings of high functional solids in high temperature plasma on functional ceramics such as YSZ electrode for fuel cell.(4)A high functional mechanism in solids such as oxide super conductor and high quality composite materials were cleares by percolation theory.
本课题在不改变主要研究项目的基础上,利用大型等离子体化学气相沉积实验装置和专用光谱仪,进行了一些小规模的实验研究,旨在建立工业化生产的高性能材料合成条件,提高表面处理的可操作性。但由于测量系统的调整略有延误,将比最初计划晚几个月完成。主要实验结果如下:(1)利用专用谱仪对直流电弧等离子体中的活性自由基离子种类C、C_2、CH、CH_2、CH_3和CH^<3+>的空间分布进行了解析。利用该技术,通过光谱测定结果,确立了高功能材料的合成条件。(2)在几种难熔基底金属上合成了多晶金刚石小块和金刚石膜。直流电弧等离子体中激发的自由基离子与基体表面的反应对成核点的数量的影响比生长速率大得多。(3)使用上述CVD反应器,在高温等离子体中在功能陶瓷如燃料电池用YSZ电极上粉末喷涂或涂覆高功能固体。(4)A逾渗理论阐明了氧化物超导体和高质量复合材料等固体中高功能化机理。

项目成果

期刊论文数量(36)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
K.YOSHIDA: "Thermal Transport and Percolative Trannsition in the Ag-BPSCCO Composite System" J.Phys. Soc. of Japan. 64. 164-169 (1995)
K.YOSHIDA:“Ag-BPSCCO 复合系统中的热传输和渗透转变”J.Phys。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Y.Tomii: "Effect of Non-diamond Material on the Diamond Film Formation by Plasma Jet CVD" J.J.Soc.Pow.& Pow.Met.vol.40. 80-84 (1993)
Y.Tomii:“非金刚石材料对等离子喷射 CVD 金刚石薄膜形成的影响”J.J.Soc.Pow。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
冨井 洋一: "プラズマジェットCVDダイヤモンド膜形成におよぼす非ダイヤモンド質の影響" 粉体および粉末冶金. 40. 80-84 (1993)
Yoichi Tomii:“非金刚石材料对等离子喷射 CVD 金刚石薄膜形成的影响”粉末和粉末冶金学。 40. 80-84 (1993)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
加藤 周一郎: "超音波はんだ付技術を用いたアルミニウムと異種金属の接合" アルトピア. 6. 9-13 (1993)
Shuichiro Kato:“使用超声波焊接技术连接铝和异种金属”Altopia 6. 9-13 (1993)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
桑原秀行: "鉄合金のプラズマ窒化" 粉体および粉末冶金. 41. 1341-1351 (1994)
Hideyuki Kuwahara:“铁合金的等离子氮化”粉末和粉末冶金。 41. 1341-1351 (1994)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

TOMII Yoichi其他文献

Catalog of the Nieuwe Atlas in the Shizuoka prefectural librfay.
静冈县图书馆的新地图集目录。
  • DOI:
  • 发表时间:
    2005
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    MATSUDA;Kiyoshi;TOMII Yoichi;TOMITA Yoshio
  • 通讯作者:
    TOMITA Yoshio

TOMII Yoichi的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('TOMII Yoichi', 18)}}的其他基金

An Inquiry into Performance and Manufacturing Techniques of the Optical Tools in Pre-Modern Japan
近代日本光学工具性能及制造技术探讨
  • 批准号:
    14023210
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
凝縮プラズマ系下の金属-超軽元素化合物生成機構の基礎的解明
凝聚等离子体体系中金属-超轻元素化合物形成机制的基本阐明
  • 批准号:
    12450293
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
An Attempt to In-situ Visualization for the Distribution of Reacting Radical Ion Species in DC Are Plasma
直流等离子体中反应自由基离子种类分布的原位可视化尝试
  • 批准号:
    05453089
  • 财政年份:
    1993
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)

相似国自然基金

超宽禁带半导体金刚石CVD制备与掺杂技术研发
  • 批准号:
    2025QK3013
  • 批准年份:
    2025
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
CVD 金刚石薄膜在原子气室中的抗弛豫原理 与方法研究
  • 批准号:
    Q24F040034
  • 批准年份:
    2024
  • 资助金额:
    0.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
“缓释控源”CVD精准合成转角二维范德华异质结及其神经突触器件研究
  • 批准号:
    62404060
  • 批准年份:
    2024
  • 资助金额:
    0 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
PEDOT电极纳米结构的CVD制备及其在柔性钙钛矿电池中的应用研究
  • 批准号:
    2023J01087
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    10.0 万元
  • 项目类别:
    省市级项目
(xZrC-yHfC-zSiC)/SiC多层交替涂层的多相共沉积机理及其一步CVD法制备研究
  • 批准号:
    52302071
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30.00 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
基于气象环境数据与机器学习集成的东北地区CVD健康风险管理优化研究
  • 批准号:
    72304273
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30.00 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
CVD石墨烯作为模板制备高质量sp2碳共轭2D COFs薄膜
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2022
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
基于低缺陷CVD单晶金刚石的高电荷收集效率电离辐射探测器的基础研究
  • 批准号:
    52261135545
  • 批准年份:
    2022
  • 资助金额:
    105.00 万元
  • 项目类别:
    国际(地区)合作与交流项目
扭角叠层二维材料的CVD可控生长及性能调控
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2021
  • 资助金额:
    58 万元
  • 项目类别:
    面上项目
超长径比内腔表面CVD渗层改性机理与表面构筑
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2021
  • 资助金额:
    58 万元
  • 项目类别:
    面上项目

相似海外基金

Development of high-performance Polycrystalline CVD diamond coated cutting tool edge with femtosecond laser
飞秒激光高性能多晶CVD金刚石涂层切削刀具刃口的开发
  • 批准号:
    19K14876
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Reduction of residual stresses in CVD diamond layers on steel parts through creation of hierarchically structured surface topographies by applying cutting processes
通过应用切割工艺创建分层结构的表面形貌,减少钢部件上 CVD 金刚石层的残余应力
  • 批准号:
    407169265
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Research Grants
CVD Single Crystal Diamond Detectors
CVD 单晶金刚石探测器
  • 批准号:
    ST/P002595/1
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Training Grant
Manufacturing of CVD diamond coated tools with high process stability
制造具有高工艺稳定性的 CVD 金刚石涂层工具
  • 批准号:
    289861565
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Research Grants (Transfer Project)
Large-size clusterization of heavily-doped degenerate CVD diamond layer and its functional device application
重掺杂简并CVD金刚石层大尺寸团簇及其功能器件应用
  • 批准号:
    15H03557
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Designing a CVD diamond antiproton beam monitor for ALPHA
为 ALPHA 设计 CVD 金刚石反质子束监测器
  • 批准号:
    483820-2015
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    University Undergraduate Student Research Awards
Analysis of the influence quantities on the adhesion of CVD diamond layers on carbide tools
CVD金刚石层对硬质合金刀具附着力的影响量分析
  • 批准号:
    267184104
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Research Grants
Development of cell cultivation dish based radiation detector in single-crystal CVD diamond membrane
基于细胞培养皿的单晶CVD金刚石膜辐射探测器的研制
  • 批准号:
    26600139
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
CVD DIAMOND AS A SUBSTRATE FOR BIOLOGICAL CELL GROWTH - TOWARDS DIRECT BRAIN-COMPUTER INTERFACES
CVD 金刚石作为生物细胞生长的基质 - 迈向直接脑机接口
  • 批准号:
    EP/K002503/1
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Research Grant
Fabrication of Diamond-Like Carbon Molecular Sieve Membrane via Plasma-Enhanced CVD
通过等离子体增强 CVD 制备类金刚石碳分子筛膜
  • 批准号:
    25820382
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 10.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了