课题基金 / 基金详情

極限集積化シリコン知能エレクトロニクス

極限集積化シリコン知能エレクトロニクス
高度集成的硅智能电子
批准号:
06352041
负责人:
大見 忠弘
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
财政年份:
1994
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1994 至 --

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项目成果

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本総合研究(B)は,平成7年度発足の重点領域研究「極限集積化シリコン知能エレクトロニクス」の準備調査を目的として実施されたものである。この重点領域研究に掲げた研究テーマは,情報処理体系の基本理念に関し大転換を伴うものである。このようなパラダイムシフトの要求されるオリジナル技術の開発には,システム・回路・デバイス・材料プロセス各分野の研究者が有機的に融合した新しい研究体制で臨むことが必須である。したがって,まず,各研究分野間の垣根を取り払い,研究者に共通の意識を持ってもらうための研究班全体での研究・討論会を開催し、各分野の研究者がそれぞれの分野における研究状況を紹介するとともに技術的な討論を行った。また、5班からなる各研究班それぞれにおいても各大学における研究打ち合わせ等を通じて研究者間の交流を促進した。これらにより,今まで、あまり交流の無かった,システム・回路・デバイス・材料プロセスの各分野の研究者間にも確固としたネットワークが形成された。また,知能情報処理の本質とは何か,それを実現するシステムアーキテクチャは何か,また具現化するための電子回路の構成は,そしてこれらを可能にするデバイスの新しい機能とは何か,さらにこうしたシステム・回路・デバイスを具現化する材料・プロセス研究の進むべき方向は何か、といった問題に対し,各分野の研究者間で意志統一が図られ,重点領域研究の開始に備えて準備が整った。
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专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
ウルトラクリーン・プラズマプロセスシステムの開発
  • 批准号:
    05044074
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for international Scientific Research
  • 资助金额:
    $4.48万
  • 财政年份:
    1993
  • 负责人:
    大見 忠弘
  • 依托单位:
超清浄金属表面の触媒作用による高効率水素ラジカル発生プロセスの研究
  • 批准号:
    05237204
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $1.02万
  • 财政年份:
    1993
  • 负责人:
    大見 忠弘
  • 依托单位:
超LSIの完全ドライ・トータル低温製造ラインシステムの試作研究
  • 批准号:
    04505002
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (A)
  • 资助金额:
    $26.18万
  • 财政年份:
    1992
  • 负责人:
    大見 忠弘
  • 依托单位:
温度振動法によるシリコン気相成長の研究
  • 批准号:
    56460100
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $5.82万
  • 财政年份:
    1981
  • 负责人:
    大見 忠弘
  • 依托单位:
海外基金