课题基金 / 基金详情

ナノメータスケールの高精度位置決めによる3次元集積化

ナノメータスケールの高精度位置決めによる3次元集積化
3D集成纳米级高精度定位
批准号:
09F09076
负责人:
須賀 唯知
金额:
$1.09万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2009
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2009 至 2010

项目摘要

项目成果

須賀 唯知的其他基金

相关文献

中文摘要
翻译
ウエハの接合にあたり、前年度の知見をもとに、プラズマ活性化の最適な接合条件を検討した。さらに、その上で、従来試みられていなかった水のプラズマ化による表面活性化の検討を行った。ガラスウエハに対して、フッ素添加の酸素プラズマによる表面活性化に加え、水を添加した水プラズマが有効であることを示した。これは、ウエハ表面の親水性は接合の可否に大きく影響していることが示され、これが、水とフッ素の相乗作用で最適化されたものと考えられる。さらに、従来のプ真空中でのイオン衝撃活性化との組み合わせを検討した。シリコンに対しては有効であったが、ガラス基板については、大きな差は見られなかった。これは、シリコンについてはフッ素の反応性が高いのに対し、ガラスについては疎水化のコントロールが難しいためと考えられる。ガラス基板の接合は、マイクロチャネンルを作成したバイオデバイスの試作を行い、本接合手法が有効であることを示した。銅貫通電極の接合に対して、銅の接合への適用の検討を行った。銅表面に水和物が形成されることにより、大気中での接合も可能であることが示された。詳細はさらに検討中である。
英文摘要
ウエハの接合にあたり、前年度の知見をもとに、プラズマ活性化の最適な接合条件を検討した。さらに、その上で、従来試みられていなかった水のプラズマ化による表面活性化の検討を行った。ガラスウエハに対して、フッ素添加の酸素プラズマによる表面活性化に加え、水を添加した水プラズマが有効であることを示した。これは、ウエハ表面の親水性は接合の可否に大きく影響していることが示され、これが、水とフッ素の相乗作用で最適化されたものと考えられる。さらに、従来のプ真空中でのイオン衝撃活性化との組み合わせを検討した。シリコンに対しては有効であったが、ガラス基板については、大きな差は見られなかった。これは、シリコンについてはフッ素の反応性が高いのに対し、ガラスについては疎水化のコントロールが難しいためと考えられる。ガラス基板の接合は、マイクロチャネンルを作成したバイオデバイスの試作を行い、本接合手法が有効であることを示した。銅貫通電極の接合に対して、銅の接合への適用の検討を行った。銅表面に水和物が形成されることにより、大気中での接合も可能であることが示された。詳細はさらに検討中である。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Aligned Low-Temperature Wafer Bonding for 3D Integration and MEMS
用于 3D 集成和 MEMS 的对齐低温晶圆键合
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [王晨曦(Wang, Chenxi)]
通讯作者: Chenxi)
DOI: 10.1149/1.2982909
发表时间: 2008-08
期刊:
影响因子: --
作者: [Chenxi Wang;S. Taniyama;Yinghui Wang;T. Suga]
通讯作者: Chenxi Wang;S. Taniyama;Yinghui Wang;T. Suga
Strategies of Aligned Low-Temperature Wafer Bonding for 3D Integration and MEMS
用于 3D 集成和 MEMS 的对准低温晶圆键合策略
DOI: --
发表时间: 2010
期刊:
影响因子: --
作者: [Chenxi Wang, Shingo Taniyama, Ying-Hui Wang, Tadatomo Suga, Chenxi Wang, Tadatomo Suga, Chenxi Wang, Chenxi Wang, Chenxi Wang]
通讯作者: Chenxi Wang
DOI: --
发表时间: 2010
期刊:
影响因子: --
作者: [Chenxi Wang, Shingo Taniyama, Ying-Hui Wang, Tadatomo Suga, Chenxi Wang, Tadatomo Suga, Chenxi Wang]
通讯作者: Chenxi Wang
11
    低温大気中接合によるウエハスケール3次元集積化に関する研究
    • 批准号:
      08F08386
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额:
      $1.28万
    • 财政年份:
      2008
    • 负责人:
      須賀 唯知
    • 依托单位:
    常温接合によるマイクロシステムインテグレーション
    • 批准号:
      13025215
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • 资助金额:
      $26.94万
    • 财政年份:
      2001
    • 负责人:
      須賀 唯知
    • 依托单位:
    圧電膜を利用した原子間力の計測
    • 批准号:
      03650203
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $1.22万
    • 财政年份:
      1991
    • 负责人:
      須賀 唯知
    • 依托单位:
    高温酸化物超伝導体と金属の常温接合
    • 批准号:
      03210105
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • 资助金额:
      $0.96万
    • 财政年份:
      1990
    • 负责人:
      須賀 唯知
    • 依托单位: