光電子ホログラフィー解析システムの開発

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本研究の目的は、蛍光スクリーン上に表示された光電子回折パターンをCCDカメラで2次元的に測定するシステムの構築と、測定された光電子回折パターンをホログラフィーの手法を用いて表面構造解析を行う解析プログラムの開発である。2次元回折パターンの測定システムについては、冷却CCDカメラとデータ測定・解析用コンピュータにより、回折パターンの測定・表示を行うシステムを完成することができた。このシステムの特徴は,CCD(電荷結合素子)の各ピクセル毎に16ビットという広いダイナミックレンジでデータを取り込むことが可能であることである。実際に、低速電子回折パターンや中速電子回折パターンの測定を行いこのシステムによる測定の精度、性能の評価を行った。その結果、システムが非常に広いダイナミックレンジを持ち、光電子回折パターンの測定にも十分に対応できる性能であることが確認された。今後、実際の光電子回折パターン・ホログラフィーへの適用を行っていく予定である。測定・解析プログラムに関しては、前述のようにCCDカメラの画像をコンピュタ-に取込み、ディスプレイに表示を行うことが現在可能になっている。デジタル化されたデータは、通常の濃淡表示だけでなく、等高線表示や、プロファイルの表示も可能であり、測定表示プログラムに関してはほぼ完了した。現在、光電子回折パターンをホログラフィーによって解析するプログラムの開発を行っている段階であり、今後は得られた実空間像(表面構造)を表示する部分の作成も行う予定である。