シングルドメインSi(001)2×1表面上のGeのエレクトロマイグレーション
Ge在单畴Si(001)2×1表面上的电迁移
基本信息
- 批准号:05750022
- 负责人:
- 金额:$ 0.58万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份:1993
- 资助国家:日本
- 起止时间:1993 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
:本研究課題の目的は、超高真空中でシングルドメインSi(001)表面を作成し、その表面上に吸着させたGe原子の電界・電流による移動現象(エレクトロマイグレーション)を調べることである。観察は、既存の走査電子顕微鏡を使用するため、本研究費補助金は主に試料の作成部分と試料に与える電界・電流および温度のコントロール部分の作成に使用した。まず、下地のシングルドメインSi(001)表面は、面方位が精度よく決定されたSi(001)ウェファを超高真空中で加熱清浄化した後にSiをホモエピタキシャル成長して作成する。このSiをエピタキシャル成長させるためのSiの蒸着源を作製した。またGeは既存のKnudsenセルを使用して蒸着を行うこととしたが、安定した蒸着を行うためには、Knudsenセルの精密な温度コントロールが必要となる。そこで温度コントロール可能な電源システムの製作を行った。具体的にはKnudsenセルの温度をW-Re熱電対でモニターし、その温度が一定になるように電子温度調節器を使用してヒーター電流のコントロールを行うシステムである。実際のGe蒸着膜厚の評価はまだ行っていないが、Knudsenセルの温度は期待通りの精度で制御することができた。次にエレクトロマイグレーションを調べる時に試料に与える電界・電流のコントロールシステムを作製した。このシステムは、実際に試料に電流・電界をあたえる電源、試料の温度をモニターするデジタルマルチ温度計、およびそれら電源、温度計を制御するデスクトップコンピューターからなる。このうち本研究補助金は、デジタルマルチ温度計の購入、コンピューターと電源・温度計間のインターフェース、システムを制御するためのソフトウェアの開発のために使用した。作製したシステムを用いて実際に試料へ電界・電流をかける実験を行ったが、電流、温度、通電時間などを期待どうりに制御することができた。以上のようなシステムの構築を行い、下地Si(001)表面のシングルドメインを作成し、Geの蒸着に関する予備実験の段階まで行った。現在、エレクトロマイグレーションの実験を行う準備を進めている。
The purpose of this research is to prepare and adjust the electric boundary and current movement phenomenon of Ge atoms adsorbed on Si(001) surface in ultra-high vacuum. This research grant covers the preparation of the main sample and the use of the current and temperature components. The Si(001) surface orientation is determined by the accuracy of the Si(001) surface orientation. The Si(001) surface orientation is determined by the accuracy of the Si(001) surface orientation. The Si(001) surface orientation is determined by the Si(001) surface orientation. The growth of Si is controlled by Si vapor source. The temperature of the existing Knudsen is necessary to stabilize the temperature of the existing Knudsen The production of temperature control and possible power supply systems is underway. The specific temperature of the Knudsen family is W-Re, and the temperature of the family is constant. The electronic temperature regulator is used to adjust the temperature of the family. In fact, the evaluation of Ge vapor film thickness is divided into two parts, and the temperature of Knudsen is controlled by the expected accuracy. The next step is to adjust the temperature of the sample and the current. The temperature of the sample is controlled by the temperature sensor. This research grant is for the purchase of thermometers, power supplies, and development. For example, when the test material is in use, the current is out, the current is out, and the time of energization is out. The structure of the above-mentioned system is in progress, the surface of Si(001) is in progress, and the preparation of Ge is in progress. Now, let's move forward.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
虻川 匡司其他文献
フラッシング加熱によるSi3Dマイクロ構造と表面の構造変化
闪蒸加热导致的 Si3D 微观结构和表面结构变化
- DOI:
- 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
中塚 聡平;内藤 完;今泉 太志;虻川 匡司;江口 豊明;服部 梓;田中 秀和;服部 賢 - 通讯作者:
服部 賢
種々の応力状態における軟鋼板の非線形除荷挙動
不同应力状态下低碳钢板的非线性卸载行为
- DOI:
- 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
中塚 聡平;内藤 完;今泉 太志;虻川 匡司;江口 豊明;服部 梓;田中 秀和;服部 賢;浜孝之,平山健太郎,宅田裕彦 - 通讯作者:
浜孝之,平山健太郎,宅田裕彦
ナノビームRHEEDによるSi基板上マイクロ構造の局所表面構造解析
使用纳米束 RHEED 对硅基底上的微结构进行局部表面结构分析
- DOI:
- 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
中塚 聡平;内藤 完;今泉 太志;虻川 匡司;江口 豊明;服部 梓;田中 秀和;服部 賢 - 通讯作者:
服部 賢
大規模サプライチェーンシミュレーションによる新型コロナウイルスの経済的影響の推計―感染拡大防止策は個別企業にどのような影響を与えたかー
使用大规模供应链模拟来估计新型冠状病毒的经济影响 - 防止感染传播的措施对各个公司有何影响?
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
中塚 聡平;内藤 完;今泉 太志;虻川 匡司;江口 豊明;服部 梓;田中 秀和;服部 賢;浜孝之,平山健太郎,宅田裕彦;中郡広人,井上寛康 - 通讯作者:
中郡広人,井上寛康
Si(551)表面の表面構造解析I
Si(551)表面I的表面结构分析
- DOI:
- 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
内藤 完;中塚 聡平;小川 修一;虻川 匡司;江口 豊明;服部 賢;服部 梓;黒田 理人 - 通讯作者:
黒田 理人
虻川 匡司的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('虻川 匡司', 18)}}的其他基金
ナノ薄膜表面のスピン配列観測法の開発
纳米薄膜表面自旋取向观察方法的发展
- 批准号:
14702007 - 财政年份:2002
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
光電子回折パターンからのホログラフィー成分の抽出
从光电子衍射图案中提取全息成分
- 批准号:
08750029 - 财政年份:1996
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
原子放出電子ホログラフィー測定手法の確立
原子发射电子全息测量方法的建立
- 批准号:
07750028 - 财政年份:1995
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
光電子ホログラフィー解析システムの開発
光电全息分析系统研制
- 批准号:
06750023 - 财政年份:1994
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
相似国自然基金
气氛—温度作用下原子分辨的III-V/同轴Si(001)异质结构演化的原位动态研究
- 批准号:52301004
- 批准年份:2023
- 资助金额:30.00 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
相似海外基金
Direct growth of ternary or higher arsenide-based semiconductors on Si(001) epitaxial substrates
在 Si(001) 外延衬底上直接生长三元或更高砷化物基半导体
- 批准号:
23K04598 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Scanning tunneling microscopy and -spectroscopy of GaP layers on Si(001)
Si(001) 上 GaP 层的扫描隧道显微镜和光谱学
- 批准号:
252528669 - 财政年份:2014
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Research Grants
On the Novel Properties of Ir Modified Si(001) and Si(111) Surfaces: Nanowires and Rashba Type Spin-Orbit Splitting
Ir 修饰的 Si(001) 和 Si(111) 表面的新性质:纳米线和 Rashba 型自旋轨道分裂
- 批准号:
1306101 - 财政年份:2013
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Continuing Grant
Mechanismen und Manipulation der Musterbildung auf Si(001)
Si(001)上图案形成的机制和操纵
- 批准号:
47714821 - 财政年份:2007
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Research Units
Film formation utilizing bi-layer and (111)-slope on Si (001) substrate
利用双层和 (111) 斜率在 Si (001) 衬底上形成薄膜
- 批准号:
19569003 - 财政年份:2007
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Platzspezifische Reaktivität der Si(001)-Oberfläche
Si(001) 表面的位点特异性反应性
- 批准号:
55641396 - 财政年份:2007
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Research Grants
Ge/Si(001)表面上超高集積1次元量子井戸列のシュタルクラダーの実現
Ge/Si(001)表面超高集成一维量子阱阵列Starkladder的实现
- 批准号:
17656013 - 财政年份:2005
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
Photo-induced bond breaking and new phase formation on Si(001) surface
Si(001)表面光致键断裂和新相形成
- 批准号:
15340101 - 财政年份:2003
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Surface reaction process at epitaxial growth of 3C-SiC on Si(001) using organosilicon compounds
使用有机硅化合物在 Si(001) 上外延生长 3C-SiC 的表面反应过程
- 批准号:
14550023 - 财政年份:2002
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Atomistic tunnelig barrier of heteroepitaxial SiO_2/Si(001)
异质外延SiO_2/Si(001)原子隧道势垒
- 批准号:
13640322 - 财政年份:2001
- 资助金额:
$ 0.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)