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バリスティック電子放射顕微鏡による金属半導体界面のエッジにおける電気的特性の測定

使用弹道电子发射显微镜测量金属-半导体界面边缘的电特性

基本信息

批准号：
07555005
负责人：
長谷川幸雄
金额：
$ 9.98万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
财政年份：
1995
资助国家：
日本
起止时间：
1995 至 1997
项目状态：
已结题

项目摘要

今年度には、バリスティック電子放射顕微鏡(BEEM)の設計およびその組立を行った。これまでのBEEMでは大気中あるいは液体窒素中で実験が行われており、そのため試料の清浄度の問題や表面の吸着物による影響が指摘されてきた。こうした点を避けるために、BEEMユニット全体を超高真空内に入れて研究を行う計画である。そのためのイオンポンプやターボポンプなどを真空系等の設計を行い、現在10^<-11>台の超高真空状態が得られる状態になっている。また試料処理・蒸着用のポートも作製しており、界面面積を小さくするためのマスウなども取り付けて、真空内で作製した試料をそのままBEEMに搬送して表面および界面の状態を原子レベルの分解能で観察出来るようになっている。除振対策に関しては除振台を超高真空内に組み込んだ形のものを採用し、コンパクトな本体となるようにした。またBEEMでは検出する電流が極めて微弱であり、そのノイズ対策が重要である。電流検出用のアンプを自作して真空内に入れ、試料からの距離を出来るだけ小さくしてノイズの影響を減らそうとしている。またBEEMスペクトラム読み込み用の波形記憶装置を設計しパーソナルコンピュータで制御することによって、測定の高速化・平均化を行い、他からのノイズを避けS/N比を高める工夫を行っている。現在STMを用いてその性能の確認を進めており、従来に比べ10倍ほど測定時間を短縮できさらにノイズも少ないことから、十分な効果があることが判ってきている。

This year, the electronic radiation micrometer (BEEM) equipment and equipment will be set up for this year. Please tell me that the liquid asphyxiant has no effect on the cleanliness of the liquid asphyxiant. The problem of the cleanliness of the liquid asphyxiant is that the surface adsorbent has a negative effect on the surface. In order to avoid the problem, the BEEM will enter the research program in an ultra-high vacuum. The design of the vacuum system and other equipment, such as the vacuum system, is now available in the ultra-high vacuum state of 10 ^ & lt;-11>. The material is steamed with the material, the interface is active, the interface is active, the material is used in the vacuum, the BEEM is transported, the surface, the interface, the atom, the decomposition energy are detected. The vibration control strategy is used to remove the vibration table in ultra-high vacuum. The inner structure of the vibration table is used. It is very important for the BEEM to make sure that the current is very weak, and that it is very important to improve the policy. The current generator is used to input the current in a vacuum, and the material is separated from each other. In order to improve the performance of the BEEM system, the waveform logging device is used to design the system. The system is used to control the performance of the system, to determine the performance of the high-speed averaging system, and to avoid the high-speed performance of the system. At present, STM uses the performance test system to make sure that the time limit is 10 times higher than that of the previous one.