矯正用フッ素徐放性歯科材料からのフッ素放出と唾液による酸処理エナメル質への作用
正畸含氟牙科材料缓释氟的释放及其对唾液酸化牙釉质的影响
基本信息
- 批准号:08672396
- 负责人:
- 金额:$ 0.96万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:1996
- 资助国家:日本
- 起止时间:1996 至 1997
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
平成8年度の研究成果に基づき,本年度は人工唾液中の酸蝕エナメル質に対する放出フッ素の影響についての検討を行った.つまり,脱イオン中のへのチャージアップ効果については,浸漬したNaF濃度の影響が有意に現われ,その一方で浸漬時間の影響は少なかったことから,今回はチャージアップ条件として,2%NaF,浸漬時間5分間を選択した.実験期間(各2週間),規模は前回と同様とした.脱イオン水の変わりとして市販の噴射式の人工唾液(サリベート)を採用した.また,最初からGICとともに,1)酸蝕した牛歯エナメル質,2)酸食しない牛歯エナメル質の存在下で,人工唾液中のフッ素とカルシウム濃度をイオン電極にて測定した.牛歯エナメル質は表面を研磨した後,直径5ミリ粘着テープで被覆し,残存部にすべてプロテクトバーニッシュを施した.バーニッシュ硬化後,酸蝕試料はクラレ社製,エッチングジェルで30秒間酸蝕処理を施した.その結果,脱イオン水とは異なる放出パターンが認められ,人工唾液への放出フッ素量は少なかった.今回の研究の結果,1.チャージアップ効果は認められたが,最初の2週間で材料間でフッ素の放出量に有意の差が認められた.2.最初の2週間では,フッ素濃度とカルシウム濃度との間に有意な負の相関が認められた.3.EPMA分析により,エナメル質へのフッ素の取り込みは放出フッ素量に比例し,酸蝕エナメル質の方が多い傾向が認められた.これらにより,GICから放出されたフッ素イオンは,唾液中のカルシウムイオンとともに歯質表面,もしく溶液中に沈着したことが推察された.しかしながら,EPMAによる観察では,表面へのフッ化カルシウムの沈着を特定するにいたらなかった.脱灰・再石灰化に及ぼすフッ化物に効果は今だ不明の点もあるため,マイクロラジオグラムなどによるさらなる検討が必要と考えられる.
Based on the research results of Heisei 8, this year, we conducted research on the effects of acid corrosion and quality on the release of hormones in artificial saliva. The influence of NaF concentration on the dipping time was intentionally observed, but the influence of dipping time was less observed. Now the condition of dipping time was selected as follows: 2% NaF, dipping time 5 minutes. During the period of two weeks, the scale of the previous cycle is the same. The artificial saliva of spray type is used in the market. In the presence of GIC, 1) acid etching, 2) acid etching, and 2) acid etching, the concentration of vitamin C in artificial saliva was determined by an electrode. After grinding, the diameter of the surface is 5 mm, and the remaining part is coated with adhesive. After hardening, the sample was etched for 30 seconds. As a result, the amount of artificial saliva released was reduced. The results of this study are as follows: 1. There is a significant difference in the amount of phosphorus released between materials during the first two weeks. 2. There is a significant negative correlation between the concentration of phosphorus and the concentration of phosphorus during the first two weeks. 3. EPMA analysis shows that there is a significant difference in the amount of phosphorus released between materials during the first two weeks. Acid corrosion is the most common cause of corrosion. The GIC is released from the saliva, and the surface of the saliva is deposited in the solution. EPMA is a very important tool in the field of environmental protection, especially in the field of environmental protection. Deashing, re-lime and lime compounds are the result of an unknown point of view, and it is necessary to examine them.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
高橋 健作其他文献
高橋 健作的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
相似海外基金
Synthesis of endohedral carbon nano-clusters by ion-multi-scattering on curved carbon thin film surfaces
弯曲碳薄膜表面离子多重散射合成内嵌碳纳米团簇
- 批准号:
17K05602 - 财政年份:2017
- 资助金额:
$ 0.96万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
オンウエハセンサ技術による基板電荷蓄積量とイオンエネルギー分布計測技術の開発
利用晶圆上传感器技术开发基板电荷存储量和离子能量分布测量技术
- 批准号:
21560026 - 财政年份:2009
- 资助金额:
$ 0.96万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Establishment of Charging Free and Non-Scatter Implantation Technology for Micro Powders by Using Negative-Ion Beam
负离子束无电荷、无散射微粉注入技术的建立
- 批准号:
08555172 - 财政年份:1996
- 资助金额:
$ 0.96万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
STM発光による金属微粒子の単電子チャージアップ効果の研究
STM发射研究金属微粒单电子充电效应
- 批准号:
07640433 - 财政年份:1995
- 资助金额:
$ 0.96万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
Establishment of the Negative-Ion Beam Technology for Material Modification
负离子束材料改性技术的建立
- 批准号:
05402027 - 财政年份:1993
- 资助金额:
$ 0.96万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (A)