光解離反応における電子軌道配向の完全解析
光解反应中电子轨道取向的完整分析
基本信息
- 批准号:96F00310
- 负责人:
- 金额:$ 0.77万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份:1998
- 资助国家:日本
- 起止时间:1998 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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鈴木 俊法其他文献
著しく損傷を受けたジルコン内でのU,Pb,REEの再分配挙動について
严重损伤锆石中 U、Pb 和 REE 的再分布行为
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- 影响因子:0
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Takao Fuji;Toshinori Suzuki;Y.Yamatan;日高 洋;Takao Fuji and Toshinori Suzuki;M.Kurita;O. Fukumasa;Toshinori Suzuki;日高 洋;Toshinori Suzuki;O. Fukumasa;O.Fukumasa;日高 洋;Toshinori Suzuki;K.Osaki;Toshinori Suzuki;H. Hidaka;T. Toda;Toshinori Suzuki;H. Hidaka;小城 吉寛,高口 博志,莫 宇翔,鈴木 俊法;Y. Yoshihara;小城 吉寛,高口 博志,鈴木 俊法;菊池麻希子;T. Toda;鈴木 俊法;瀧口 愛;K. Akimoto;鈴木 俊法;T. Toda;日高 洋;藤 貴夫,堀尾 琢哉,鈴木 俊法;K. Akimoto;瀧口 愛;鈴木 俊法;穐本和樹;菊池麻希子 - 通讯作者:
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Molecular photoelectron spectroscopy-Fundamentals and Challenges
分子光电子能谱 - 基础知识和挑战
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Toshinori Suzuki
直流熱プラズマによる水酸化アパタイトコーティング(II) 〜生成膜の膜質とプラズマジェット温度との関連性〜
使用直流热等离子体的羟基磷灰石涂层(II)〜所产生的膜的膜质量与等离子体喷射温度的关系〜
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- 发表时间:
2007 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
小城 吉寛;高口 博志;鈴木 俊法;神昌宏;Toshinori Suzuki;戸田剛史 - 通讯作者:
戸田剛史
直流プラズマジェットによる水酸化アパタイトコーティング
直流等离子射流羟基磷灰石涂层
- DOI:
- 发表时间:
2005 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Yoshiichi Suzuki;Takuya Horio;Yoshihiro Ogi;Hiroshi Kohguchi;Toshinori Suzuki;奥 瑞希,大下 慶次郎,岩崎 純史,西澤 潔,鈴木 俊法;武井信裕;鈴木 喜一,鈴木 俊法,;藤本聡;鈴木 喜一,鈴木 俊法;大崎堅;鈴木 俊法;Y. Yamatan;鈴木 俊法;M. Kurita;鈴木 俊法;大崎堅;鈴木 喜一,鈴木 俊法;Y. Yamatani;奥 瑞希,大下 慶次郎,岩崎 純史,西澤 潔,鈴木 俊法;M. Kurita;西澤 潔,大下 慶次郎,鈴木 俊法;赤畑海山;岩崎 純史,;大崎堅;Toshinori Suzuki;Toshinori Suzuki;栗田雅紀 - 通讯作者:
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切削力制御加工のための高安定な切削力検出に関する研究
切削力控制加工的高稳定切削力检测研究
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
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栗田悠生,文博,松隈啓,清水裕樹,高偉
鈴木 俊法的其他文献
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