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CVD-Prozesse mit neuartigen metallorganischen Precursoren zur Herstellung von hoch-Epsilon Gatedielektrika und metallischen Gatelektroden zukünftiger CMOS-Generation
采用新型有机金属前体的 CVD 工艺，用于生产未来 CMOS 一代的高 epsilon 栅极电介质和金属栅极电极
基本信息
- 批准号：5313534
- 负责人：
- 金额：--
- 依托单位：
- 依托单位国家：德国
- 项目类别：Priority Programmes
- 财政年份：2001
- 资助国家：德国
- 起止时间：2000-12-31 至 2003-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
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项目成果
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Professor Dr. Wolfgang A. Herrmann其他文献
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- 批准号：
34424834 - 财政年份：2006
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- 批准号：
12713473 - 财政年份：2005
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Research Grants