プロセスプラズマの電子エネルギー分布関数と化学反応性の制御

过程等离子体的电子能量分布函数和化学反应性的控制

• 批准号: 13780384
• 负责人: 石島 達夫
• 金额: $ 1.41万
• 依托单位: Nagoya University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2001
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2001 至 2002
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-13780384/
• 关键词: 電子エネルギー分布関数; 高密度・低電子温度; 表面波励起プラズマ; 化学反応種; グローバルモデル; 出現質量分析法; 高密度プラズマ; エッチング; 準安定原子

半導体の微細加工プロセスで用いられるプラズマは、高度な制御性が求められている。そのために、プラズマ中の化学活性種の組成を決定する電子エネルギー分布関数が重要視されている。本研究では、プラズマ中の化学活性種と電子エネルギー分布関数の制御に関する一般的な指針を得るために、次の項目について重点的に研究を行った。(1)電子エネルギー分布関数の制御:電離電圧の異なる希ガスを混合させた時の電子エネルギー分布関数の計測を詳細に行い、バルクの電子温度は、粒子バランスから導出される電子温度とほぼ一致することを明らかにした。また電離電圧が低いガスを混合させることにより低温・低解離プラズマが生成できることを見出した。(2)化学活性種組成比の希釈ガス依存性:圧力一定の条件下において希釈ガス種を変えたときのフルオロカーボンプラズマ中のラジカル組成を出現質量分析法により計測を行い、グローバルモデルより求めたラジカル組成比と定性的に一致することを明らかにした。

The half-body micro-machining system is used to measure the quality of the machine, and the height of the system is high. The chemical activity composition of carbon dioxide and carbon dioxide determines the number of important chemical activity components in the distribution of electrical power plants. In this study, the distribution of chemical activity, electricity, gas, electricity, electricity, electricity, (1) the control of the temperature distribution of computers: the control of the temperature distribution of computers, the temperature of the batteries, the temperature of the batteries, the Low temperature, low temperature and low temperature. (2) the ratio of chemical activity components to dependence: under certain conditions, it is necessary to analyze the components of the chemical reactions. in this paper, the chemical activity components are analyzed by the method of quantitative analysis, and the results are consistent with each other.

项目成果

石島達夫, 菅井秀郎 他1名: "Effects of Rare Gas Mixture on Electron Distribution Function and Fluorocarbon Radical Composition"Proceedings of 25th International Conference on Phenomena in Ionized Gases. 1巻. 157-158 (2001)

Tatsuo Ishijima、Hideo Sugai 等 1 人：“稀有气体混合物对电子分布函数和氟碳自由基成分的影响”第 25 届国际电离气体现象会议论文集第 1 卷。157-158（2001 年）。

石島達夫, 菅井秀郎 他1名: "Control of Electron Distribution Function and Radical Composition of Fluorocarbon Plasma by Rare Gas Selection"Proceedings of the 18th Symposium on Plasma Processing. 79-80 (2001)

Tatsuo Ishijima、Hideo Sugai 等 1：“通过稀有气体选择控制氟碳等离子体的电子分布函数和自由基组成”第 18 届等离子体加工研讨会论文集 79-80（2001）。

石島達夫, 菅井秀郎他1名: "Electron Temperature Control by Rare Gas Mixing with Metastable Atom Contribution"Proceedings of International Conference of Dry Process Symposium 2001. 87-92 (2001)

Tatsuo Ishijima、Hideo Sugai 等 1 人：“利用亚稳态原子贡献的稀有气体混合进行电子温度控制”国际干法研讨会论文集 2001. 87-92 (2001)

石島達夫, 菅井秀郎他1名: "Effects of metastable atom contribution to Electron Temperature and radical composition in Fluorocarbon plasmas"Abstracts of Frontiers of Surface Engineering 2001. 208 (2001)

Tatsuo Ishijima、Hideo Sugai 和其他 1 人：“亚稳态原子对氟碳等离子体中电子温度和自由基组成的影响” 摘要表面工程前沿 2001. 208 (2001)

石島達夫, 菅井秀郎他1名: "Rare-gas based control of high density plasmas for silicon oxidation"Proceedings of 16th ESCAMPIG and 5th ICRP. 1巻. 325-326 (2002)

Tatsuo Ishijima、Hideo Sugai 和其他 1 人：“基于稀有气体的硅氧化高密度等离子体控制”第 16 届 ESCAMIG 和第 5 届 ICRP 会议记录（2002 年）。