エピタキシャル薄膜における極性構造の原子レベル理解と新機能探索
エピタキシャル薄膜における極性構造の原子レベル理解と新機能探索
批准号:
14703024
负责人:
角谷 正友
金额:
$16.81万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份:
2002
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2002 至 2004
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
サファイア基板上に成長する窒化物半導体薄膜の極性構造を利用した新機能を探索した結果、可視光に反応する光触媒効果と紫外光に応答する光電効果を見出すことができた。TiO_2やSrTiO_3の光触媒効果よりも高い効果を示すGa面GaN薄膜とInを混晶化することによって、In組成11-30%のInGaN薄膜において可視光での光触媒効果を確認した。その効果はInGaN薄膜の質の向上とともに高くなる傾向があることがわかった。一方、GaN薄膜とAlを混晶化することによって、広バンドギャップを図り、Mg-dope(p型化)Al組成20-30%で320mn以下の光に対して10%以上の高い量子効率の光電効果を確認した。短波長の光に対する高感度センサーの可能性を示した。1つのサファイア基板上に2つの極性構造の異なるGaN薄膜を同時に成長させる(stereo-selective成長)新しい方法を開発した。これまでサファイア基板を硝酸溶液で処理することによってstereo-selective成長を実現していたが、wetプロセスのために微細化が困難であった。今年度高速電子線回折や電子線描画システムの電子源を高温水素処理したサファイア基板に照射するというdryプロセスによって数μmレベルで微細化されたGaN薄膜のstero-selective成長を実現した。
期刊论文(6)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
M.Sumiya, S.Fuke: "Review of polarity determination and control of GaN"MRS Internet J.of Nitride Semicond.Res. 9. 1-35 (2004)
M.Sumiya、S.Fuke:“GaN 极性确定和控制的回顾”MRS Internet J.of Nitride Semicond.Res。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
M.Sumiya et al.: "Systematic analysis and control of low-temperature GaN buffer layers on sapphire substrates"J. Appl. Phys.. 93. 1311-1319 (2003)
M.Sumiya 等:“蓝宝石衬底上低温 GaN 缓冲层的系统分析和控制”J。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
サファイア基板上への窒化物薄膜の製造方法及び窒化物薄膜装置
在蓝宝石衬底上制备氮化物薄膜的方法及氮化物薄膜装置
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
極性構造から見たGaN薄膜成長におけるサファイア基板上バッファの層の機能
从极性结构角度探讨蓝宝石衬底缓冲层在GaN薄膜生长中的作用
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
日本結晶成長学会誌 (accepted)
影响因子:
--
作者:
[角谷正友, 福家俊郎]
通讯作者:
福家俊郎
角谷正友(執筆分担): "イオン工学ハンドブック第4章 薄膜形成技術 4.3 CVD技術"(株)イオン工学研究所. 12 (2003)
Masatomo Kakutani(共同作者):《离子工程手册第4章薄膜形成技术4.3 CVD技术》株式会社离子工程研究所12(2003年)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
コンビナトリアル合成MOCVD法による高格子不整合半導体薄膜の作製
-
批准号:10750604
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$1.28万
-
财政年份:1998
-
负责人:角谷 正友
-
依托单位:
海外基金