スパッタリング技術を用いたハイドロキシアパタイト薄膜の消臭機能
溅射技术羟基磷灰石薄膜的除臭功能
基本信息
- 批准号:16710055
- 负责人:
- 金额:$ 1.79万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2004
- 资助国家:日本
- 起止时间:2004 至 2005
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
昨年度の研究結果から、スパッタリング法により作製したハイドロキシアパタイト(HA)薄膜が優れた消臭性を有し、コーティング条件により、臭気の選択性を変化させることが可能であることが明らかとなった。しかし、HA単体では臭い分子の吸着が飽和してしまうと、長時間の性能が発揮できないため、本年度は光触媒機能を持つ二酸化チタン(TiO2)薄膜をスパッタリング法により作製し、これをHAとのダブルコーティングすることにより、更なる消臭性能の改善を試みた。実験では、TiO2薄膜、HA薄膜、HA/TiO2薄膜の光透過性の評価及び紫外線下でのホルマリンガスに対する消臭性能の評価を行った。光透過性実験では、HA/TiO2薄膜は可視光波長範囲(400〜800nm)で、平均して87%の透過率を示し、通常のガラス面に用いても十分な透過性を有することが明らかとなった。消臭実験では、4時間後、ホルマリンガスの残存量は、ガラス、TiO2薄膜、HA薄膜、HA/TiO2薄膜において、それぞれ、90%、21%、80%、0%を示し、HA/TiO2薄膜が最も高い消臭性能を示した。本結果より、本HA/TiO2薄膜は、ガラスを有する様々な空間に応用できる消臭材としての可能性が示唆された。本研究の結果により、特許出願「光触媒リン酸カルシウム薄膜」を行い、また、第21回ライフサポート学会において、バリアフリーシステム開発財団奨励賞を受賞した。
The research results of last year showed that there was a good odor elimination property in HA films, and there was a good odor elimination property in HA films. This year, the photocatalytic function of HA was improved by the continuous oxidation of TiO2 thin films, and the improvement of deodorizing performance was also tested. In this paper, the evaluation of light transmittance and odor elimination performance of TiO2 thin film, HA thin film and HA/TiO2 thin film under ultraviolet ray are carried out. The optical transmittance of HA/TiO2 thin films is very high in the visible wavelength range (400 ~ 800nm), with an average transmittance of 87%. After 4 hours of deodorizing, the residual amount of odor is 90%, 21%, 80% and 0% respectively. HA/TiO2 film has the highest deodorizing performance. The results show that the HA/TiO2 thin film has the possibility of removing odor in space. The results of this study were awarded to the 21st National Photocatalyst Research Institute for the development of photocatalysts.
项目成果
期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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