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Preparation of functional materials via highly efficient and sustainable sputtering system using multi pulse plasma

Preparation of functional materials via highly efficient and sustainable sputtering system using multi pulse plasma
使用多脉冲等离子体通过高效且可持续的溅射系统制备功能材料
批准号：
23K03817
负责人：
木村 高志
金额：
$3.0万
依托单位：
Nagoya Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2023
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2023-04-01 至 2026-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23K03817/
关键词：
スパッタリングHiPIMSプラズマ機能性薄膜ハ－ドコーティング

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高周波プラズマ源を用いた超微細加工処理装置の試作
  • 批准号：
    12750239
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    2000
  • 负责人：
    木村 高志
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology
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  • 批准号：
    03750036
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $0.58万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    木村 高志
  • 依托单位：
    Nagoya Institute of Technology
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一种基于HiPIMS电源的复杂结构陶瓷表面溅射沉积金属薄膜的机理研究
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  • 项目类别：
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  • 批准年份：
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    刘向力
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