微小領域にレーザピーニング処理したアルミニウム合金の内部応力評価
微小領域にレーザピーニング処理したアルミニウム合金の内部応力評価
批准号:
17760085
负责人:
日下 一也
金额:
$2.24万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2005
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2005 至 2006
中文摘要
マグネシウム系アルミニウム合金(JIS:A5052)表面にレーザピーニング処理を行い,レーザのアブレーションによる表面形状変化の測定,レーザの集光エネルギによる表面の形態変化の観察,X線回折を用いた内部応力測定を行った.レーザピーニング処理にはYAGパルスレーザの第二高調波を用いた.はじめに,微小領域にレーザピーニングを施すときに問題となるレーザ入射角度の影響を調べた.レーザパワー密度とカバレージ(単位面積あたりのレーザショット数)を一定にして試料面法線とレーザ入射の成す角度を0°から60°まで変化させてレーザピーニングを行った.レーザ入射角度を増加するに従って1発のレーザ照射領域が円から楕円へと変化し,照射面積がレーザ入射角度の違いによって異なる.したがって,レーザパワー密度とカバレージが一定になるようにレーザのパワーと走査速度を変化させた.これらの実験より,ピーニング表面に発生する圧縮内部応力は,レーザ入射角度の変化よりもレーザパワー密度やカバレージに大きく依存することが明らかになった.次に大型放射光施設SPring-8の高輝度X線を用いて,1ショットで形成されるピーニング痕の内部応力分布測定を試みた.1発のピーニング痕の大きさは約500μmであり,X線を100μmに絞ってピーニング痕内5箇所の内部応力測定を行った.内部応力の測定位置を正確に捉えるためにレーザアブレーションにより形成されたくぼみにシリコン標準粉末を充填し,シリコンの回折を見つけることでX線の照射位置を把握することに成功した.本実験では,X線回折面法線と試料面法線を一致させずに測定を行ったので,すべての測定位置でほぼ0の応力が測定された.測定方法の改善と楕円形状のレーザピーニング痕の内部応力分布測定の計画を準備したが,SPring-8の利用制限により確かめることはできなかった.
英文摘要
マグネシウム系アルミニウム合金(JIS:A5052)表面にレーザピーニング処理を行い,レーザのアブレーションによる表面形状変化の測定,レーザの集光エネルギによる表面の形態変化の観察,X線回折を用いた内部応力測定を行った.レーザピーニング処理にはYAGパルスレーザの第二高調波を用いた.はじめに,微小領域にレーザピーニングを施すときに問題となるレーザ入射角度の影響を調べた.レーザパワー密度とカバレージ(単位面積あたりのレーザショット数)を一定にして試料面法線とレーザ入射の成す角度を0°から60°まで変化させてレーザピーニングを行った.レーザ入射角度を増加するに従って1発のレーザ照射領域が円から楕円へと変化し,照射面積がレーザ入射角度の違いによって異なる.したがって,レーザパワー密度とカバレージが一定になるようにレーザのパワーと走査速度を変化させた.これらの実験より,ピーニング表面に発生する圧縮内部応力は,レーザ入射角度の変化よりもレーザパワー密度やカバレージに大きく依存することが明らかになった.次に大型放射光施設SPring-8の高輝度X線を用いて,1ショットで形成されるピーニング痕の内部応力分布測定を試みた.1発のピーニング痕の大きさは約500μmであり,X線を100μmに絞ってピーニング痕内5箇所の内部応力測定を行った.内部応力の測定位置を正確に捉えるためにレーザアブレーションにより形成されたくぼみにシリコン標準粉末を充填し,シリコンの回折を見つけることでX線の照射位置を把握することに成功した.本実験では,X線回折面法線と試料面法線を一致させずに測定を行ったので,すべての測定位置でほぼ0の応力が測定された.測定方法の改善と楕円形状のレーザピーニング痕の内部応力分布測定の計画を準備したが,SPring-8の利用制限により確かめることはできなかった.
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会议论文
レーザーピーニング処理したアルミニウム合金の残留応力のレーザーパワー密度および走査速度依存性
激光喷丸铝合金中残余应力的激光功率密度和扫描速度依赖性
DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
材料 54巻,7号
影响因子:
--
作者:
[J.F.Geelen, S.Iwata, 高松瑞代 岩田覚, 中野 雄敬, 井岡誠司, Seiji Ioka, 荒川貴裕, 井岡 誠司, 井岡誠司, Seiji Ioka, 日下一也]
通讯作者:
日下一也
スパッタリング窒化物半導体薄膜の作製とX線回折を用いた特性評価
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批准号:11750081
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1999
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负责人:日下 一也
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依托单位:
海外基金