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単一グレイン有機薄膜トランジスタの形成技術と電気伝導機構に関する研究

単一グレイン有機薄膜トランジスタの形成技術と電気伝導機構に関する研究
单晶有机薄膜晶体管形成技术及导电机理研究
批准号:
17760559
负责人:
西村 知紀
金额:
$2.24万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2005
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2005 至 2006

项目摘要

项目成果

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従来有機トランジスタの駆動力は結晶粒界により律速していると考えられていた。しかし、粒界の状態にも依存するが一概に粒界律速ではないことも示され始めていることから、本年度は有機半導体の単一グレイン化に特化せず、伝導機構としてのチャネルに関する研究を進めた。まず、チャネルと逆極性の有機半導体材料を電極/有機半導体間に挿入することで、閾電圧を制御できる可能性を示した。p型有機半導体のペンタセン(C22H14)を用いたトップコンタクト型のFETと同構造の電極/ペンタセン間にn型有機半導体のフッ素化ペンタセン(C22F14)を挿入した構造のFETの閾電圧を比較し、閾電圧が正方向にシフトすることが確認された。この原理はゲート電圧が殆ど印加されていない領域で電極より注入された電子がフッ素化ペンタセン内でトラップされ、ペンタセンへのホールの注入障壁を低下させるため、ペンタセン内のホールトラップが速やかに埋められることによりチャネル形成に必要な負電圧量を低下させていると推定される。また、有機半導体を蒸着形成する基板表面により有機半導体/ゲート絶縁膜界面に生じるトラップ量と共に結晶性が異なることからその相関の重要性が示された。SiO2、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)処理によりCH3終端したSiO2、PMMA(ポリメチルメタクリレート)塗布SiO2上にp型有機半導体ペンタセン膜、電極を形成しId-Vg、C-V特性を評価したところ電圧に対するヒステリシスが基板処理によって大きく異なることが分かった(ヒステリシス:PMMA<<others)。このヒステリシスの起源は界面、若しくは界面近傍のホールトラップであることが示された。更にPMMA塗布試料は単一の結晶相のみから成り、長距離秩序性も高いことが分かった。これら研究成果は9月の固体素子会議、3月の応用物理学会において報告することができた。
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科研奖励(0)
会议论文
Threshold voltage control in pentacene TFTs by perfluoropentacene stack
通过全氟并五苯堆栈控制并五苯 TFT 的阈值电压
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: Extended Abstracts of 2006 International Conference on Solid State Devices and Materials
影响因子: --
作者: [T.Yokoyama, T.Nishimura, K.Kita, A.Toriumi]
通讯作者: A.Toriumi
Energy Level Consideration of Source/Channel/Drain for Performance Enhancements of N- and P-Channel Organic FETs
用于增强 N 沟道和 P 沟道有机 FET 性能的源极/沟道/漏极的能级考虑
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: IEEE Device Research Conference Conferrence Digest.
影响因子: --
作者: [T.Yokoyama, T.Nishimura, K.Kita, K.Kyuno, A.Toriumi]
通讯作者: A.Toriumi
Reduction of bias-induced threshold voltage shift in pentacene field effect transistors by interface modification and molecular ordering.
通过界面修饰和分子排序减少并五苯场效应晶体管中偏置引起的阈值电压偏移。
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: Extended Abstracts of 2006 International Conference on Solid State Devices and Materials
影响因子: --
作者: [C.B.Park, T.Nishimura, T.Yokoyama, K.Kita, A Toriumi]
通讯作者: A Toriumi
Performance Recovery of n-channel Perfluoropentacene Thin Film Transistors by High Vacuum Annealing
高真空退火n沟道全氟并五苯薄膜晶体管的性能恢复
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: Extended Abstracts of 2005 International Conference on Solid State Devices and Materials
影响因子: --
作者: [T.Yokoyama, T.Nishimura, K.Kita, K.Kyuno, A.Toriumi]
通讯作者: A.Toriumi
二次元層状物質を用いた金属/Si,Ge界面のバンドアライメント決定機構の解明
  • 批准号:
    22K04212
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $2.75万
  • 财政年份:
    2022
  • 负责人:
    西村 知紀
  • 依托单位:
海外基金