セシウムフリー大電流負イオン源の研究
无铯强流负离子源的研究
基本信息
- 批准号:17760670
- 负责人:
- 金额:$ 0.96万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2005
- 资助国家:日本
- 起止时间:2005 至 2007
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
従来の負イオン源では、負イオン生成促進のため少量のセシウムを添加し、仕事関数の下がった表面での負イオンの表面生成を利用している。本研究では、セシウムを使用することなく高密度の負イオンを生成することのできる負イオン源開発のための基礎研究として、低仕事関数材料に着目し、負イオン源への適用可能性を検討している。平成19年度においては、平成18年度までに作成したアルカリドープタングステン、六ホウ化ランタン、酸化バリウム製プラズマ電極を負イオン源に取り付けて、イオン源動作環境下での仕事関数測定試験を行った。イオン源内のプラズマ電極の仕事関数計測のために、〜1273Kまで加熱した各種電極の熱電子を測定する方法と、レーザー照射による光電子測定する方法を利用した。その結果、以下の知見が得られた。1) アルカリ金属ドープ材では、基材の仕事関数とほぼ変化がなかった。電極間でグロー放電を点弧して、表面酸化層の除去を図ったが、光電子量に変化はなかった。2) 6ホウ化ランタンでは、今回試験した材料では最も低い仕事関数(2.35 eV)が得られた。また、低仕事関数を得るためには10^<-4>Pa台の高真空下で1〜2時間のべーキングが必要だが、一度ベーキングを行った後は、イオン源動作環境での低真空下(10^<-1>Pa台)においても、低仕事関数表面が維持されることがわかった。これらの結果から、今後六ホウ化ランタンを採用したプラズマ電極を使用して、実際の負イオン生成試験を開始する予定である。
従 to の negative イ オ ン source で は, negative イ オ ン generated promote の た め small の セ シ ウ ム を add し, shi masato under several の が っ た surface で の negative イ オ ン の surface generation を し て い る. This study で は, セ シ ウ ム を use す る こ と な く high-density の negative イ オ ン を generated す る こ と の で き る negative イ オ ン open source 発 の た め の basic research と し て, low に masato several materials with mesh し shi, negative イ オ ン source へ の applicable possibility を beg し 検 て い る. Pp.47-53 19th annual に お い て は, pp.47-53 18 year ま で に made し た ア ル カ リ ド ー プ タ ン グ ス テ ン, six ホ ウ change ラ ン タ ン, acidification バ リ ウ ム system プ ラ ズ マ を negative electrode イ オ ン source に り pay け て, イ オ ン source movement environment で の shi matter masato test measuring line を っ た. イ オ ン source within の プ ラ ズ マ electrode の shi what masato meter measuring の た め に, ~ 1273 k ま で heating し た various electrode の thermionic を determination す と る method, レ ー ザ ー irradiation に よ る optoelectronic measuring す を る method using し た. Youdaoplaceholder0 そ result, the following <s:1> insight が results in られた. 1) ア カリ カリ metal ド プ プ material で った, base material material related number とほぼ change がな プ った. The でグロ でグロ discharge between electrodes を point arc て て, surface acidified layer <s:1> removal を graph ったが, and the に change of photoelectron quantity な な った った. 2) 6ホウ is used to turn ラ ラ タ タ で で, and the lowest <s:1> relationship value (2.35 eV) of the で た data from this experiment is が to obtain られた. ま た, low shi that number of masato を る た め に は 10 ^ < - > 4 Pa の machine under high vacuum で 1 ~ 2 time の べ ー キ ン グ が necessary だ が, once ベ ー キ ン グ を line っ た は, after イ オ ン source movement environment で の under low vacuum (10 ^ < 1 > Pa) に お い て も number, low shi masato surface が maintain さ れ る こ と が わ か っ た. こ れ ら の results か ら, the next six ホ ウ change ラ ン タ ン を using し た プ ラ ズ マ electrode を use し て, be interstate の negative イ オ ン generated test を began す る designated で あ る.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
谷口 正樹其他文献
谷口 正樹的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('谷口 正樹', 18)}}的其他基金
開4次元多様体に対するゲージ理論とその応用
规范理论及其在开四维流形中的应用
- 批准号:
22K13921 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 0.96万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
2次元結び目とYang-Millsゲージ理論について
关于二维结和 Yang-Mills 规范理论
- 批准号:
20K22319 - 财政年份:2020
- 资助金额:
$ 0.96万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
低次元多様体に対するゲージ理論的不変量の研究
低维流形规范理论不变量的研究
- 批准号:
17J04364 - 财政年份:2017
- 资助金额:
$ 0.96万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
固体増殖材と水素同位体との動的相互作用に関する研究
固体育种材料与氢同位素动态相互作用研究
- 批准号:
96J03707 - 财政年份:1998
- 资助金额:
$ 0.96万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows














{{item.name}}会员




