Preparation of electorolessly deposited cobalt alloy films with amorphous-nano modulated structures
Preparation of electorolessly deposited cobalt alloy films with amorphous-nano modulated structures
非晶-纳米调制结构化学沉积钴合金薄膜的制备
批准号：
18560699
负责人：
HITOSHI Matsuda
金额：
$1.98万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2006
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2006 至 2008
中文摘要
翻译
物質は、原子が規則正しく配列する「結晶質」と配列がランダムな「アモルファス」に分類できる。無電解めっき法で作製条件によって、アモルファスから結晶質まで種々の膜を形成可能である。この研究では、(1) 1枚の膜の中で、結晶がアモルファスから結晶質へ少しずつ変化する構造傾斜膜(2) 1枚の膜の中でアモルファスと結晶質が幾何学的に配列した2相変調構造膜の作製に成功した。また、その構造観察や磁気特性解析を行い、実用化の基礎資料を提示した
英文摘要
物質は、原子が規則正しく配列する「結晶質」と配列がランダムな「アモルファス」に分類できる。無電解めっき法で作製条件によって、アモルファスから結晶質まで種々の膜を形成可能である。この研究では、(1) 1枚の膜の中で、結晶がアモルファスから結晶質へ少しずつ変化する構造傾斜膜(2) 1枚の膜の中でアモルファスと結晶質が幾何学的に配列した2相変調構造膜の作製に成功した。また、その構造観察や磁気特性解析を行い、実用化の基礎資料を提示した
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Co-P miltilayer film electrodeposited under DC electrolysis
直流电解电沉积Co-P多层膜
直流电解电沉积Co-P多层膜
DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
Electrochem. Comm. 9
影响因子：
--
作者：
[N. Fukimuro, J. Nishiyama. K. Shigeta, Y. Morimoto, H. Takagami, S. Yae. H. Matsuda]
通讯作者：
S. Yae. H. Matsuda
無電解プロセスによるシリコン微細孔の作製と金属充填
化学镀工艺制造硅微孔和金属填充
化学镀工艺制造硅微孔和金属填充
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[田中裕三, 福室直樹, 八重真治, 松田均, 深井有, N. Fukumuro, 丸尾寿明, 中山 彰, 田中裕三, S. Yae, T. Hirano, 小佐々 寛, 丸尾寿明, 中山 彰, 福室直樹, 平野達也]
通讯作者：
平野達也
電解法により作製したCo めっき膜の微細構造に及ぼす水素の影響
氢对电解法镀Co薄膜微观结构的影响
氢对电解法镀Co薄膜微观结构的影响
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[中山彰、福室直樹, 八重真治, 松田均, 深井有]
通讯作者：
深井有
平滑アルミナ基板と無電解純Ni めっき膜の密着性と内部応力との関係
光滑氧化铝基体与化学镀纯镍膜间附着力与内应力的关系
光滑氧化铝基体与化学镀纯镍膜间附着力与内应力的关系
DOI：
--
发表时间：
2009
期刊：
エレクトロニクス実装学会誌 12(2)
影响因子：
--
作者：
[伊藤潔, 福室直樹, 八重真治, 松田均]
通讯作者：
松田均
Confirmation of hydroxide in electroless cobalt alloy films by GDOES
GDOES 确认化学镀钴合金膜中的氢氧化物
GDOES 确认化学镀钴合金膜中的氢氧化物
DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
Trans. Instit. Met. Fin. 85
影响因子：
--
作者：
[N. Fukumuro. J. Nishiyama, k. Shigeta, H. Takagami, S. Yae, H. matsuda]
通讯作者：
H. matsuda
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